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1. (WO2011125870) DISPOSITIF DE CUISSON À HAUTE FRÉQUENCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/125870    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/058280
Date de publication : 13.10.2011 Date de dépôt international : 31.03.2011
CIB :
F24C 7/02 (2006.01), F24C 15/16 (2006.01), H05B 6/78 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-Cho, Abeno-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
TATSUMU Norikimi; (US Seulement).
AOYAMA Kenichi; (US Seulement)
Inventeurs : TATSUMU Norikimi; .
AOYAMA Kenichi;
Mandataire : SANO Shizuo; Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan, 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5400032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-085406 01.04.2010 JP
Titre (EN) HIGH FREQUENCY COOKING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CUISSON À HAUTE FRÉQUENCE
(JA) 高周波調理装置
Abrégé : front page image
(EN)Supplied in a heating chamber (20) of the disclosed high frequency cooking device (1) are high frequency waves generated by oscillation of a high frequency wave generating device (21). On the floor of the heating chamber (20), a roller stay (31) is mounted with and rotates a turn table (30). Between the bottom surface of the turn table (30) and the floor of the heating chamber (20), a tilt limiting member is positioned which prevents the turn table (30) from being tilted to or beyond a prescribed angle. The tilt limiting member comprises a protrusion (50) formed on the floor of the heating chamber (20), a protrusion (51) formed on the bottom surface of the turn table (30), and a linking stay (52) linking an arm (31b) of the roller stay (31).
(FR)La présente invention concerne un dispositif de cuisson à haute fréquence (1) comprenant une chambre chauffante (20) dans laquelle des ondes à haute fréquence sont fournies qui sont générées par l'oscillation d'un dispositif de génération d'ondes à haute fréquence (21). Sur le plancher de la chambre chauffante (20), un support à roulettes (31) est équipé d'un plateau tournant (30) qu'il met en rotation. Entre la surface inférieure du plateau tournant (30) et le plancher de la chambre chauffante (20), un élément limitant l'inclinaison est positionné, qui empêche le plateau tournant (30) d'être incliné à un angle prédéterminé ou au-delà de celui-ci. L'élément limitant l'inclinaison comprend une saillie (50) formée sur le plancher de la chambre chauffante (20), une saillie (51) formée sur la surface inférieure du plateau tournant (30), et un support de liaison (52) reliant un bras (31b) du support à roulettes (31).
(JA) 高周波調理装置(1)の加熱室(20)には、高周波発生装置(21)の発振により発生する高周波が供給される。加熱室(20)の底壁にはターンテーブル(30)を載置して回転するローラーステイ(31)が配置されている。ターンテーブル(30)の下面と加熱室(20)の底壁の間に、ターンテーブル(30)が所定角度以上傾くことを防ぐ傾動制限部材が配置される。加熱室(20)の底壁に形成された突起(50)、ターンテーブル(30)の下面に形成された突起(51)、ローラーステイ(31)のアーム(31b)同士を連結する連結ステイ(52)などが傾動制限部材を構成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)