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1. (WO2011125583) AIMANT PERMANENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/125583    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/057564
Date de publication : 13.10.2011 Date de dépôt international : 28.03.2011
CIB :
H01F 1/08 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), B22F 1/02 (2006.01), B22F 3/00 (2006.01), B22F 3/10 (2006.01), H01F 1/053 (2006.01), H01F 41/02 (2006.01), H02K 15/03 (2006.01), C22C 33/02 (2006.01), C22C 38/00 (2006.01)
Déposants : NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP) (Tous Sauf US).
OZEKI Izumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUME Katsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRANO Keisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OMURE Tomohiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAIHAKU Keisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OZAKI Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OZEKI Izumi; (JP).
KUME Katsuya; (JP).
HIRANO Keisuke; (JP).
OMURE Tomohiro; (JP).
TAIHAKU Keisuke; (JP).
OZAKI Takashi; (JP)
Mandataire : NEXT INTERNATIONAL; 7th Floor, Daiei Building, 11-20, Nishiki 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-083924 31.03.2010 JP
Titre (EN) PERMANENT MAGNET AND MANUFACTURING METHOD FOR PERMANENT MAGNET
(FR) AIMANT PERMANENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 永久磁石及び永久磁石の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a permanent magnet and a manufacturing method for the permanent magnet in which gaps are not formed between the main phase and the grain-boundary phase of the magnet after sintering, and in which the entire magnet can be densely sintered. An organometallic compound solution, to which an organometallic compound represented by the formula M-(OR)x has been added, is added to a fine powder of a pulverized neodymium magnet, and the organometallic compound is uniformly deposited on the surface of the neodymium magnet grains. Afterwards, the dried magnet grains undergo calcination in hydrogen by being retained in a hydrogen atmosphere for several hours at 200℃-900℃. Furthermore, the pulverulent calcined body calcined in the hydrogen undergoes hydrogenation by being retained in a vacuum atmosphere for several hours at 200℃-600℃. (In the formula, M is V, Mo, Zr, Ta, Ti, W, or Nb. R is a substituent group comprising a hydrocarbon, and can be a straight chain or a branched chain. x is an arbitrary integer.)
(FR)L'invention concerne un aimant permanent et un procédé de fabrication de cet aimant permanent au cours duquel il n'y a pas de formation d'entrefers entre la phase principale et la phase de joint de grains de l'aimant après frittage, et au cours duquel la totalité de l'aimant peut subir un frittage dense. Une solution de composé organométallique, à laquelle a été ajouté un composé organométallique représenté par la formule M-(OR)x, est ajoutée à une poudre fine d'un aimant de néodyme pulvérisé, et le composé organométallique est déposé uniformément sur la surface des grains de l'aimant de néodyme. Ensuite, les grains de l'aimant séchés subissent une calcination dans l'hydrogène lorsqu'ils sont retenus dans une atmosphère d'hydrogène pendant plusieurs heures à une température comprise entre 200 °C et 900 °C. De plus, le corps calciné pulvérulent calciné dans l'hydrogène subit une hydrogénation lorsqu'il est retenu dans une atmosphère sous vide pendant plusieurs heures à des températures comprises entre 200 °C et 600 °C. (Dans la formule, M représente V, Mo, Zr, Ta, Ti, W, ou Nb. R est un groupe substituant comprenant un hydrocarbure, et peut être une chaîne droite ou une chaîne ramifiée. x représente un nombre entier arbitraire).
(JA) 焼結後の磁石の主相と粒界相との間に空隙を生じさせることなく、また、磁石全体を緻密に焼結することが可能となった永久磁石及び永久磁石の製造方法を提供する。 粉砕されたネオジム磁石の微粉末に対して、M-(OR)(式中、MはV、Mo、Zr、Ta、Ti、W又はNbである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。)で示される有機金属化合物が添加された有機金属化合物溶液を加え、ネオジム磁石の粒子表面に対して均一に有機金属化合物を付着させる。その後、乾燥させた磁石粉末を水素雰囲気において200℃~900℃で数時間保持することにより水素中仮焼処理を行い、更に、水素中仮焼処理によって仮焼された粉末状の仮焼体を真空雰囲気で200℃~600℃で数時間保持することにより脱水素処理を行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)