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1. (WO2011124747) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE NETTOYAGE MÉCANIQUE D'UNE SURFACE TRANSPARENTE D'UN INSTRUMENT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/124747    N° de la demande internationale :    PCT/FI2011/050191
Date de publication : 13.10.2011 Date de dépôt international : 04.03.2011
CIB :
B08B 7/02 (2006.01), G01N 21/00 (2006.01)
Déposants : CLEWER OY [FI/FI]; Linnankatu 34 FI-20100 Turku (FI) (Tous Sauf US).
ROINE, Juho [FI/FI]; (FI) (US Seulement).
ZAITSEV, Gennadi [BY/FI]; (FI) (US Seulement)
Inventeurs : ROINE, Juho; (FI).
ZAITSEV, Gennadi; (FI)
Mandataire : LEITZINGER OY; Tammasaarenkatu 1 FI-00180 Helsinki (FI)
Données relatives à la priorité :
20105363 09.04.2010 FI
Titre (EN) ARRANGEMENT AND METHOD FOR MECHANICAL CLEANING OF A TRANSPARENT SURFACE OF AN OPTICAL INSTRUMENT
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE NETTOYAGE MÉCANIQUE D'UNE SURFACE TRANSPARENTE D'UN INSTRUMENT OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An arrangement and method for mechanical cleaning of an active surface (4,17-20) of an instrument (5) in touch with liquid. The active surface of the instrument is exposed to cleaning media (11), which consists of separate, moving particles, enclosed into an instrument container. The motion of the cleaning media is rotational and achieved and maintained by directing an influx (9) parallel to the direction of motion (8) of the cleaning media. The influx may contain gas, liquid or mixture of gas and liquid. The cleaning media wipes clean the at least one active instrument surface.
(FR)L'invention porte sur un dispositif et sur un procédé pour le nettoyage mécanique d'une surface active (4, 17-20) d'un instrument (5) touchant un liquide. La surface active de l'instrument est exposée à un milieu de nettoyage (11), qui est constitué par des particules mobiles séparées renfermées dans un contenant d'instrument. Le mouvement du milieu de nettoyage est un mouvement de rotation, et il est obtenu et maintenu par la direction d'un influx (9) parallèle à la direction de déplacement (8) du milieu de nettoyage. L'influx peut contenir un gaz, un liquide ou un mélange d'un gaz et d'un liquide. Le milieu de nettoyage essuie la ou les surfaces actives de l'instrument de façon à la ou les nettoyer.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)