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1. (WO2011122605) MOULE DOTÉ D'UNE COUCHE DE LIBÉRATION POUR IMPRESSION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MOULE DOTÉ D'UNE COUCHE DE LIBÉRATION POUR IMPRESSION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MOULE DE COPIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/122605    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/057762
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 29.03.2011
CIB :
B29C 59/02 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Nakaochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (Tous Sauf US).
SUZUKI Kota [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUZUKI Kota; (JP).
KOBAYASHI Hideo; (JP)
Mandataire : ANIYA Setuo; 21 TOWA BLDG. 3F, 6-1, Iidabashi 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1020072 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-079288 30.03.2010 JP
2010-187569 24.08.2010 JP
2011-069290 28.03.2011 JP
Titre (EN) MOLD HAVING RELEASE LAYER FOR IMPRINTING, METHOD FOR PRODUCING MOLD HAVING RELEASE LAYER FOR IMPRINTING, AND METHOD FOR PRODUCING COPY MOLD
(FR) MOULE DOTÉ D'UNE COUCHE DE LIBÉRATION POUR IMPRESSION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MOULE DOTÉ D'UNE COUCHE DE LIBÉRATION POUR IMPRESSION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MOULE DE COPIE
(JA) インプリント用離型層付きモールド及びインプリント用離型層付きモールドの製造方法、コピーモールドの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a mold having a release layer, in which the release layer is disposed in the mold which transfers a specific uneven pattern onto a molding material to be patterned by means of the imprinting method, wherein the main chain of the molecular chains of a compound contained in the release layer contains fluorocarbons, the molecular chains of the compound have at least two adsorption functional groups that are adsorbed or bonded to the mold, the bonding energy in the adsorption functional groups that becomes the source of adsorption or bonding of the adsorption functional groups to the mold is greater than the bonding energy between one adsorption functional group and another adsorption functional group in the molecular chains of the compound, and the surface free energy of the release layer is optimized by means of heating.
(FR)La présente invention a trait à un moule doté d'une couche de libération, laquelle couche de libération est disposée dans le moule qui transfère un motif irrégulier spécifique sur un matériau de moulage sur lequel des motifs doivent être formés au moyen du procédé d'impression, la chaîne principale des chaînes moléculaires d'un composé contenu dans la couche de libération contenant des fluorocarbures, les chaînes moléculaires du composé étant dotées au moins de deux groupes fonctionnels d'adsorption qui sont adsorbés ou liés au moule, l'énergie de liaison dans les groupes fonctionnels d'adsorption qui devient la source d'adsorption ou de liaison des groupes fonctionnels d'adsorption au moule étant supérieure à l'énergie de liaison entre un groupe fonctionnel d'adsorption et un autre groupe fonctionnel d'adsorption dans les chaînes moléculaires du composé, et l'énergie libre superficielle de la couche de libération étant optimisée au moyen du chauffage.
(JA) インプリント法により所定の凹凸パターンを被パターン形成材料に転写するためのモールドに離型層が設けられた離型層付きモールドにおいて、前記離型層に含まれる化合物の分子鎖における主鎖にはフルオロカーボンが含まれ、前記化合物の分子鎖は、モールドに対して吸着または結合している吸着官能基を少なくとも2個以上有し、前記吸着官能基において、前記吸着官能基とモールドとの吸着または結合の元となる結合エネルギーが、前記化合物の分子鎖における吸着官能基同士の結合エネルギーよりも大きく、前記離型層は加熱処理によって表面自由エネルギーの最適化がなされていることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)