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1. (WO2011122586) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PHYSIQUE ET CHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/122586    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/057710
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 28.03.2011
CIB :
B01J 19/18 (2006.01), B01D 9/02 (2006.01), B01F 7/26 (2006.01), B01J 13/04 (2006.01)
Déposants : TOMA Hitoshi [JP/JP]; (JP).
YOKOHAMA National University [JP/JP]; 79-1, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2408501 (JP) (Tous Sauf US).
Acing Technologies Co., Ltd. [JP/JP]; 1-11-35, Nishiyawata, Hiratsuka-shi, Kanagawa 2540073 (JP) (Tous Sauf US).
NISHINO Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIDA Akinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
LEE Hojoon [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ICHIKAWA Hidemasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOMA Hitoshi; (JP).
NISHINO Koichi; (JP).
ISHIDA Akinobu; (JP).
LEE Hojoon; (JP).
ICHIKAWA Hidemasa; (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-074266 29.03.2010 JP
2010-074267 29.03.2010 JP
Titre (EN) CHEMICAL AND PHYSICAL PROCESSING DEVICE AND CHEMICAL AND PHYSICAL PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PHYSIQUE ET CHIMIQUE
(JA) 化学・物理処理装置及び化学・物理処理方法
Abrégé : front page image
(EN)The time needed for mixing and delays that occur in heat regulation, which influences chemical and physical processing, are fundamental issues in chemical and physical processing methods. As a result of said issues, side reactions and the like progress and process yield declines. The disclosed chemical and physical processing device is characterised by the introduction of an object to be treated into a gap formed by a rotating body and a separate body that faces the rotating body and the conduction of physicochemical processing on the basis of the rotation of the rotating body. Provided is: a chemical and physical processing device, which is characterised by the combining of at least one flow of the object to be treated, which opposes the centrifugal force, and at least one flow of the object to be treated, which conforms to the centrifugal force; and a chemical and physical process that uses said device. An additional characteristic is that a chemical and physical processing device, which uses at least one flow of an object to be treated that opposes the centrifugal force, and a chemical and physical process, which uses said device, are provided. The disclosed device is ideal in fields such as flow-parallel compound processes, DDS drugs, micro-encapsulation and self-organisation.
(FR)L'objet de la présente invention concerne la durée nécessaire pour un mélangeage et les retards qui interviennent dans une thermorégulation, ayant une influence sur un traitement physique et chimique, et qui sont des problèmes clés dans les procédés de traitement physique et chimique. Les conséquences de ces problèmes sont des réactions parasites et analogues en progression et une chute du rendement. Le dispositif de traitement physique et chimique selon l'invention est caractérisé par l'introduction d'un objet à traiter dans un espace formé par un corps rotatif et un corps séparé qui est situé en regard du corps en rotation et la mise en œuvre d'un traitement physicochimique sur la base de la rotation du corps rotatif. L'invention concerne un dispositif de traitement physique et chimique caractérisé en ce qu'il combine au moins un flux de l'objet à traiter, qui est opposé à la force centrifuge, et au moins un flux de l'objet à traiter, qui suit la force centrifuge, et un procédé physique et chimique qui utilise ledit dispositif. Une caractéristique supplémentaire est un dispositif de traitement physique et chimique, qui utilise au moins un flux de l'objet à traiter, qui est opposé à la force centrifuge, et un procédé physique et chimique qui utilise ledit dispositif. Le dispositif est idéal dans des domaines tels que des procédés de composés parallèles aux flux, des médicaments de DDS, une micro-encapsulation et une auto-organisation.
(JA)化学・物理処理方法における基本的な課題は、混合に時間を要することであり、化学・物理処理を左右する熱制御も遅れが出てしまうことである。その結果、副反応等が進行し収率を低下させることになる。 本発明による化学・物理処理装置は回転体と回転体対向離接体により形成される処理間隙に被処理体を導入し、回転体の回転のもとで物理化学処理を行なうことを特徴とするものである。少なくとも一つの遠心力に対抗する被処理体の流れと少なくとも一つの遠心力に順応する被処理体の流れを組み合わせることを特徴とする化学・物理処理装置と該装置を用いた化学・物理処理を提供することにある。またもう一つの特徴は、遠心力に対して少なくとも一つの遠心力に対抗する被処理体の流れを用いる化学・物理処理装置と該装置を用いた化学・物理処理を提供する。 流れに沿っての複合プロセス、DDS医薬、マイクロカプセル化、自己組織化等の分野に最適な装置である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)