WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2011122526) STRUCTURE DE CATHODE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/122526    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/057550
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 28.03.2011
CIB :
H01J 9/02 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), H01J 61/06 (2006.01), H01J 61/067 (2006.01)
Déposants : NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (Tous Sauf US).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GOTO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHASHI, Kentaro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ANDO, Kazuto [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHMI, Tadahiro; (JP).
GOTO, Tetsuya; (JP).
TAKAHASHI, Kentaro; (JP).
ANDO, Kazuto; (JP)
Mandataire : IKEDA, Noriyasu; Hibiya Daibiru Bldg., 2-2, Uchisaiwaicho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-074972 29.03.2010 JP
2010-074977 29.03.2010 JP
Titre (EN) CATHODE STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
(FR) STRUCTURE DE CATHODE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 陰極体およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A phenomenon was observed in which an LaB6 film deposited by sputtering had impaired crystallinity. When an LaB6 film is deposited on a substrate by sputtering, the sputtering is conducted, in an atmosphere to which nitrogen gas has been added, directly on the substrate or through a film comprising a nitride of a component of the substrate. Thus, an LaB6 film having excellent crystallinity is obtained.
(FR)Un phénomène a été observé selon lequel un film de LaB6 déposé par pulvérisation cathodique présentait un cristallinité altérée. Lorsqu'un film de LaB6 est déposé sur un substrat par pulvérisation cathodique, ladite pulvérisation cathodique est effectuée, dans une atmosphère à laquelle a été ajouté de l'azote, directement sur le substrat ou à travers un film comprenant un nitrure d'un composant du substrat. De la sorte, un film de LaB6 doté d'une excellente cristallinité est obtenu.
(JA)スパッタリングによって、LaB膜を成膜した場合、成膜されたLaB膜の結晶性が悪くなる現象が観測された。 スパッタリングによってLaB膜を基体上に成膜する際、窒素ガスを添加した雰囲気で基体上に直接、或いは、基体の成分の窒素物を含む膜上に、スパッタリングを行うことにより、結晶性の優れたLaB膜が得られた。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)