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1. (WO2011122423) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR OPTIMISER UNE SIMULATION D'USINAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/122423    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/057073
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 16.03.2011
CIB :
G05B 19/4093 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
MITSUBISHI ELECTRIC RESEARCH LABORATORIES, INC. [US/US]; 201 Broadway, Cambridge, Massachusetts 02139 (US) (JP only).
SULLIVAN, Alan [--/US]; (US) (US Seulement).
YERAZUNIS, William S. [--/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SULLIVAN, Alan; (US).
YERAZUNIS, William S.; (US)
Mandataire : SOGA, Michiharu; S. Soga & Co., 8th Floor, Kokusai Building, 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
12/751,591 31.03.2010 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR OPTIMIZING MACHINING SIMULATION
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR OPTIMISER UNE SIMULATION D'USINAGE
Abrégé : front page image
(EN)Method for optimizing a simulation of a machining of a workpiece performed by removing a set of swept volumes from a volume of the workpiece, wherein the volume is partitioned into a set of cells, comprising the steps of: associating with each cell a subset of distance fields representing a subset of swept volumes intersecting with the cell, wherein at least part of the subset of swept volumes forms a composite surface of the cell; subjecting the cell with a set of rays incident to the cell from at least one direction; and selecting a distance field of the subset of distance fields into an optimal subset associated with the cell, wherein a boundary of the swept volume represented by the distance field intersects with at least one ray at a point of intersection lying on the composite surface.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour optimiser une simulation d'un usinage d'une pièce à travailler, exécuté par enlèvement d'un ensemble de volumes balayés à partir d'un volume de la pièce à travailler, le volume étant séparé en un ensemble de cellules, le procédé comprenant les étapes consistant à : associer à chaque cellule un sous-ensemble de champs de distance représentant un sous-ensemble de volumes balayés coupant la cellule, au moins une partie du sous-ensemble de volumes balayés formant une surface composite de la cellule ; soumettre la cellule à un ensemble de rayons incidents sur la cellule suivant au moins une direction ; et sélectionner un champ de distance du sous-ensemble de champs de distance dans un sous-ensemble optimal associé à la cellule, une frontière du volume balayé représenté par le champ de distance coupant au moins un rayon en un point d'intersection se trouvant sur la surface composite.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)