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1. (WO2011121875) PROCÉDÉ D'IRRADIATION DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/121875    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/000706
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 09.02.2011
CIB :
H01J 37/22 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (Tous Sauf US).
YOKOSUKA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAZAKI, Minoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAZUMI, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAGO, Kazutami [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YOKOSUKA, Toshiyuki; (JP).
YAMAZAKI, Minoru; (JP).
KAZUMI, Hideyuki; (JP).
TAGO, Kazutami; (JP)
Mandataire : INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-076567 30.03.2010 JP
Titre (EN) ELECTRON BEAM IRRADIATION METHOD AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
(FR) PROCÉDÉ D'IRRADIATION DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(JA) 電子ビーム照射方法、及び走査電子顕微鏡
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a scanning electron microscope, wherein observation is carried out by pre-dosing an electron beam (1003) onto a pre-dosing area (1101) of a sample (1009), and then irradiating an electron beam onto an observation area (1102) of the sample, and wherein the pre-dosing area is divided into a plurality of areas (1103), and pre-dosing conditions of electron beams (1003) for each of the divided areas are determined on the basis of (a) densities of patterns contained in each of the divided areas, and (b) the types of materials forming the patterns contained in each of the divided areas. In this case, pre-dosing conditions are calculated so as to alleviate the difference in electrification among the divided areas within the pre-dosing area. This enables alleviation of unevenness in electrification within the sample, even when (a) densities of patterns varies within the pre-dosing area depending on the position therein, and (b) a plurality of different materials are contained in the pre-dosing area.
(FR)L'invention porte sur un microscope électronique à balayage, dans lequel une observation est réalisée par pré-dosage d'un faisceau d'électrons (1003) sur une zone de pré-dosage (1101) d'un échantillon (1009), puis par irradiation d'un faisceau d'électrons sur une zone d'observation (1102) de l'échantillon, et dans lequel la zone de pré-dosage est divisée en une pluralité de zones (1103), et des conditions de pré-dosage des faisceaux d'électrons (1003) pour chacune des zones divisées sont déterminées sur la base (a) des densités des motifs contenus dans chacune des zones divisées, et (b) des types de matériaux formant les motifs contenus dans chacune des zones divisées. Dans ce cas, les conditions de pré-dosage sont calculées de façon à réduire la différence d'électrification parmi les zones divisées à l'intérieur de la zone de pré-dosage. Ceci permet la réduction d'une irrégularité de l'électrification à l'intérieur de l'échantillon, même lorsque (a) des densités des motifs varient à l'intérieur de la zone de pré-dosage en fonction de la position dans celle-ci, et (b) une pluralité de matériaux différents sont contenus dans la zone de pré-dosage.
(JA)本発明は、試料(1009)の予備照射領域(1101)に電子ビーム(1003)を予備照射した後に、前記試料の観察領域(1102)に前記電子ビームを照射して観察を行う走査電子顕微鏡において、前記予備照射領域を複数の領域(1103)に分割し、(a)前記各分割領域に含まれるパターンの密集度、(b)各前記分割領域に含まれるパターンを形成する材料の種類、に基づき、前記各分割領域に対する電子ビームの予備照射条件を決定することを特徴とする。この際、予備照射領域内の各分割領域における帯電の差異を抑制するような予備照射条件が算出される。これにより、(a)予備照射領域内のパターンの密集度が位置によって異なる場合、(b)予備照射領域内に異なる複数の材質が含まれている場合、にも試料の帯電の不均一さを抑制することが可能となった。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)