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1. (WO2011121762) APPAREIL D'IRRADIATION À FAISCEAU DE PARTICULES ET APPAREIL DE TRAITEMENT PAR FAISCEAU DE PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/121762    N° de la demande internationale :    PCT/JP2010/055863
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 31.03.2010
CIB :
A61N 5/10 (2006.01)
Déposants : Mitsubishi Electric Corporation [JP/JP]; 7-3,Marunouchi 2-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1008310 (JP) (Tous Sauf US).
IWATA Takaaki [--/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IWATA Takaaki; (JP)
Mandataire : OIWA Masuo; 35-8, Minamimukonoso 3-chome, Amagasaki-shi, Hyogo 6610033 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PARTICLE BEAM IRRADIATION APPARATUS AND PARTICLE BEAM TREATMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL D'IRRADIATION À FAISCEAU DE PARTICULES ET APPAREIL DE TRAITEMENT PAR FAISCEAU DE PARTICULES
(JA) 粒子線照射装置及び粒子線治療装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a particle beam irradiation apparatus which achieves high precision beam irradiation in raster scanning and hybrid scanning by eliminating the influence of hysteresis in the scanning electromagnets. The particle beam irradiation apparatus is provided with a scanning power supply (4) for outputting exciting currents to the scanning electromagnets (3), and an irradiation control device (5) for controlling the scanning power supply (4), wherein the irradiation control device (5) includes a scanning electromagnet command value learning generator (37) which evaluates the results of a run-through consisting of a series of irradiation operations performed in accordance with an exciting current command value (Ik) output to the scanning power supply (4), and wherein the scanning electromagnet command value learning generator (37) updates the exciting current command value (Ik) and performs a run-through again if the evaluation results do not satisfy predetermined conditions, or outputs the exciting current command value (Ik) to the scanning power supply (4) if the evaluation results satisfy the predetermined conditions.
(FR)Appareil d'irradiation à faisceau de particules permettant une irradiation par faisceau très précise en mode Balayage ligne par ligne ou Balayage hybride par élimination de l'influence de l'hystérèse dans les électro-aimants à balayage. L'appareil d'irradiation à faisceau de particules selon l'invention est pourvu d'une alimentation de balayage (4) qui génère des courants d'excitation à destination des électro-aimants à balayage (3), et d'un dispositif de commande d'irradiation (5), pour commander l'alimentation de balayage (4), ledit dispositif de commande d'irradiation (5) comprenant un générateur d'apprentissage des valeurs de commande des électro-aimants à balayage (37) qui évalue les résultats d'un essai constitué d'une série d'opérations d'irradiation réalisées par application d'une valeur de commande (Ik) du courant d'excitation à l'alimentation de balayage (4). Le générateur d'apprentissage des valeurs de commande des électro-aimants à balayage (37) réactualise la valeur de commande (Ik) du courant d'excitation et répète l'essai si les résultats de l'évaluation ne satisfont pas des conditions prédéterminées, ou applique la valeur de commande (Ik) du courant d'excitation à l'alimentation de balayage (4) si les résultats de l'évaluation satisfont les conditions prédéterminées.
(JA) 走査電磁石のヒステリシスの影響を排除し、ラスタースキャニングやハイブリッドスキャニングにおいて高精度なビーム照射を実現する粒子線照射装置を得ることを目的とする。 走査電磁石(3)の励磁電流を出力する走査電源(4)と、走査電源(4)を制御する照射制御装置(5)とを備え、照射制御装置(5)は、走査電源(4)に出力された励磁電流の指令値(I)による一連の照射動作であるランスルーの結果を評価し、評価の結果が所定の条件を満たさない場合に励磁電流の指令値(I)を更新してランスルーが実行され、評価の結果が所定の条件を満たした励磁電流の指令値(I)を走査電源(4)に出力する走査電磁石指令値学習生成器(37)を有した。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)