(EN) In order to improve the light absorption of cells in solar power generation devices, an etching method needs to be found that can inexpensively and reliably produce higher-density patterns, can efficiently reduce light reflectance, and uses an alkaline solution. The disclosed method, which uses wet etching to form a pattern on the surface of a silicon wafer used in a cell in a solar power generation device, uses an etching solution containing water, an alkali, and 1,6-hexanediol.
(FR) La présente invention a pour but d'améliorer l'absorption de la lumière par les cellules de dispositifs de production d'énergie solaire, en proposant un procédé de gravure qui permet de former à moindre coût et de façon fiable des motifs avec une densité plus élevée et de réduire efficacement le facteur de réflexion de la lumière, et qui utilise une solution alcaline. Le procédé décrit, qui repose sur la gravure humide pour former un motif sur la surface d'une plaquette de silicium employée dans un dispositif de production d'énergie solaire, utilise une solution d'attaque contenant de l'eau, un alcali et du 1,6-hexanediol.
(JA) 太陽光発電装置のセルの光吸収を促進するため、安価で、安定して、より高密度にテクスチャを形成でき、光の反射率を効率よく低減できる、アルカリ性溶液を使用したウェットエッチングの方法を見出すことが課題である。太陽発電装置のセルを構成するシリコンウェハの表面に凹凸を形成するウェットエッチングによるエッチング方法であって、水、アルカリ、および１，６－ヘキサンジオールを含有するエッチング液を用いてエッチングを行うようにした。
