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1. WO2011090057 - SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE SUBSTRAT À LA LUMIÈRE, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'ALIGNEMENT À LA LUMIÈRE

Numéro de publication WO/2011/090057
Date de publication 28.07.2011
N° de la demande internationale PCT/JP2011/050829
Date du dépôt international 19.01.2011
CIB
G02F 1/1337 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333Dispositions relatives à la structure
1337Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
G02F 1/13 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
G03F 9/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G09F 9/00 2006.1
GPHYSIQUE
09ENSEIGNEMENT; CRYPTOGRAPHIE; PRÉSENTATION; PUBLICITÉ; SCEAUX
FPRÉSENTATION; PUBLICITÉ; ENSEIGNES; ÉTIQUETTES OU PLAQUES D'IDENTIFICATION; SCEAUX
9Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels
G09F 9/30 2006.1
GPHYSIQUE
09ENSEIGNEMENT; CRYPTOGRAPHIE; PRÉSENTATION; PUBLICITÉ; SCEAUX
FPRÉSENTATION; PUBLICITÉ; ENSEIGNES; ÉTIQUETTES OU PLAQUES D'IDENTIFICATION; SCEAUX
9Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels
30dans lesquels le ou les caractères désirés sont formés par une combinaison d'éléments individuels
CPC
G02F 1/133788
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
13378by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
133788by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
G03F 7/7035
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
7035Proximity or contact printer
Déposants
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 平子 貴浩 HIRAKO, Takahiro (UsOnly)
Inventeurs
  • 平子 貴浩 HIRAKO, Takahiro
Mandataires
  • 上野 登 UENO, Noboru
Données relatives à la priorité
2010-01058421.01.2010JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SUBSTRATE, METHOD FOR EXPOSURE OF SUBSTRATE TO LIGHT, AND PHOTO-ALIGNMENT TREATMENT METHOD
(FR) SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE SUBSTRAT À LA LUMIÈRE, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'ALIGNEMENT À LA LUMIÈRE
(JA) 基板、基板に対する露光方法、光配向処理方法
Abrégé
(EN) Disclosed are: a substrate in which all of regions to be exposed to light can be irradiated with a light energy with high accuracy; and a light exposure method. Using a light exposure device (5) that is equipped with multiple light exposure units (52) each comprising a light source (521) and a mask (522) having, formed therein, a light-transmissive pattern (5221) that can transmit a light energy emitted from the light source (521), a substrate (1) is irradiated with the light energy through the light-transmissive pattern (5221) formed in the mask (522) while moving the substrate (1) and the light exposure units (52) relatively to each other. At the same time, in one of the light exposure units (52) in which the mask (522) straddles a display region (11a) having a predetermined size and a display region (11b) having a different size from the predetermined size, both the display region (11a) having the predetermined size and the display region (11b) having the different size are irradiated with the light energy using an alignment pattern (12) formed on the substrate (1) as a benchmark for the control of alignment of mask (522).
(FR) L'invention porte sur un substrat, dans lequel toutes les régions devant être exposées à la lumière peuvent être irradiées avec une énergie lumineuse de grande précision, et sur un procédé d'exposition à la lumière. A l'aide d'un dispositif d'exposition à la lumière (5), qui est équipé de multiples unités d'exposition à la lumière (52) comportant chacune une source de lumière (521) et un masque (522), dans lequel est formé un motif transmettant la lumière (5221) qui peut transmettre une énergie lumineuse émise de la source de lumière (521), un substrat (1) est irradié avec l'énergie lumineuse par l'intermédiaire du motif transmettant la lumière (5221) formé dans le masque (522) pendant le déplacement du substrat (1) et des unités d'exposition à la lumière les uns par rapport aux autres (52). En même temps, dans l'une des unités d'exposition à la lumière (52) dans lesquelles le masque (522) chevauche une région d'affichage (11a) ayant une taille prédéterminée et une région d'affichage (11b) ayant une taille différente de la taille prédéterminée, la région d'affichage (11a) ayant la taille prédéterminée et la région d'affichage (11b) ayant la taille différente sont toutes deux irradiées avec l'énergie lumineuse à l'aide d'un motif d'alignement (12) formé sur le substrat (1) et constituant un repère de référence pour le contrôle de l'alignement d'un masque (522).
(JA)  すべての露光対象領域に精度良く光エネルギを照射できる基板および露光方法を提供すること。 光源521と、光源521が発する光エネルギが透過可能な透光パターン5221が形成されるマスク522とを備える複数の露光ユニット52を有する露光装置5を用い、基板1と露光ユニット52とを相対的に移動させながら基板1に対してマスク522に形成される透光パターン5221を通じて光エネルギを照射するとともに、マスク522があるサイズの表示領域11aと他のサイズの表示領域11bとに跨る露光ユニット52においては、基板1に形成されるアライメントパターン12をマスク522の位置決めの制御の基準として用い、あるサイズの表示領域11aと他のサイズの表示領域11bの両方に光エネルギを照射する。 
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