(EN) Disclosed are: a substrate in which all of regions to be exposed to light can be irradiated with a light energy with high accuracy; and a light exposure method.
Using a light exposure device (5) that is equipped with multiple light exposure units (52) each comprising a light source (521) and a mask (522) having, formed therein, a light-transmissive pattern (5221) that can transmit a light energy emitted from the light source (521), a substrate (1) is irradiated with the light energy through the light-transmissive pattern (5221) formed in the mask (522) while moving the substrate (1) and the light exposure units (52) relatively to each other. At the same time, in one of the light exposure units (52) in which the mask (522) straddles a display region (11a) having a predetermined size and a display region (11b) having a different size from the predetermined size, both the display region (11a) having the predetermined size and the display region (11b) having the different size are irradiated with the light energy using an alignment pattern (12) formed on the substrate (1) as a benchmark for the control of alignment of mask (522).
(FR) L'invention porte sur un substrat, dans lequel toutes les régions devant être exposées à la lumière peuvent être irradiées avec une énergie lumineuse de grande précision, et sur un procédé d'exposition à la lumière. A l'aide d'un dispositif d'exposition à la lumière (5), qui est équipé de multiples unités d'exposition à la lumière (52) comportant chacune une source de lumière (521) et un masque (522), dans lequel est formé un motif transmettant la lumière (5221) qui peut transmettre une énergie lumineuse émise de la source de lumière (521), un substrat (1) est irradié avec l'énergie lumineuse par l'intermédiaire du motif transmettant la lumière (5221) formé dans le masque (522) pendant le déplacement du substrat (1) et des unités d'exposition à la lumière les uns par rapport aux autres (52). En même temps, dans l'une des unités d'exposition à la lumière (52) dans lesquelles le masque (522) chevauche une région d'affichage (11a) ayant une taille prédéterminée et une région d'affichage (11b) ayant une taille différente de la taille prédéterminée, la région d'affichage (11a) ayant la taille prédéterminée et la région d'affichage (11b) ayant la taille différente sont toutes deux irradiées avec l'énergie lumineuse à l'aide d'un motif d'alignement (12) formé sur le substrat (1) et constituant un repère de référence pour le contrôle de l'alignement d'un masque (522).
(JA) すべての露光対象領域に精度良く光エネルギを照射できる基板および露光方法を提供すること。 光源521と、光源521が発する光エネルギが透過可能な透光パターン5221が形成されるマスク522とを備える複数の露光ユニット52を有する露光装置5を用い、基板1と露光ユニット52とを相対的に移動させながら基板1に対してマスク522に形成される透光パターン5221を通じて光エネルギを照射するとともに、マスク522があるサイズの表示領域11aと他のサイズの表示領域11bとに跨る露光ユニット52においては、基板1に形成されるアライメントパターン12をマスク522の位置決めの制御の基準として用い、あるサイズの表示領域11aと他のサイズの表示領域11bの両方に光エネルギを照射する。