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1. WO2011086972 - CIRCUIT ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, ET STRATIFIÉ GAINÉ DE CUIVRE POUR FABRICATION DE CIRCUIT ÉLECTRONIQUE

Numéro de publication WO/2011/086972
Date de publication 21.07.2011
N° de la demande internationale PCT/JP2011/050143
Date du dépôt international 07.01.2011
CIB
H05K 1/09 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
KCIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1Circuits imprimés
02Détails
09Emploi de matériaux pour réaliser le parcours métallique
B32B 15/08 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
15Produits stratifiés composés essentiellement de métal
04comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique
08de résine synthétique
C23C 18/52 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
18Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact
16par réduction ou par substitution, p.ex. dépôt sans courant électrique
52en utilisant des agents réducteurs pour le revêtement avec des matériaux métalliques non prévus par un seul des groupes C23C18/32-C23C18/50172
C23C 28/02 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
28Revêtement pour obtenir au moins deux couches superposées, soit par des procédés non prévus dans un seul des groupes principaux C23C2/-C23C26/180
02Revêtements uniquement de matériaux métalliques
C25D 5/10 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
5Dépôt électrochimique caractérisé par le procédé; Prétraitement ou post-traitement des pièces
10Dépôt de plusieurs couches du même métal ou de métaux différents
C25D 7/00 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
7Dépôt électrochimique caractérisé par l'objet à revêtir
CPC
B32B 15/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
15Layered products comprising ; a layer of; metal
04comprising metal as the main or only constituent of a layer, ; which is; next to another layer of ; the same or of; a ; different material
B32B 15/08
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
15Layered products comprising ; a layer of; metal
04comprising metal as the main or only constituent of a layer, ; which is; next to another layer of ; the same or of; a ; different material
08of synthetic resin
B32B 15/20
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
15Layered products comprising ; a layer of; metal
20comprising aluminium or copper
B32B 2311/12
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2311Metals, their alloys or their compounds
12Copper
C23C 18/1651
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
16by reduction or substitution, e.g. electroless plating
1601Process or apparatus
1633Process of electroless plating
1646Characteristics of the product obtained
165Multilayered product
1651Two or more layers only obtained by electroless plating
C23C 18/1653
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
16by reduction or substitution, e.g. electroless plating
1601Process or apparatus
1633Process of electroless plating
1646Characteristics of the product obtained
165Multilayered product
1653Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating
Déposants
  • JX日鉱日石金属株式会社 JX Nippon Mining & Metals Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 山西 敬亮 YAMANISHI Keisuke [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 福地 亮 FUKUCHI Ryo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 神永 賢吾 KAMINAGA Kengo [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 山西 敬亮 YAMANISHI Keisuke
  • 福地 亮 FUKUCHI Ryo
  • 神永 賢吾 KAMINAGA Kengo
Mandataires
  • 小越 勇 OGOSHI Isamu
Données relatives à la priorité
2010-00649615.01.2010JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) ELECTRONIC CIRCUIT, METHOD FOR FORMING SAME, AND COPPER CLAD LAMINATE FOR ELECTRONIC CIRCUIT FORMATION
(FR) CIRCUIT ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, ET STRATIFIÉ GAINÉ DE CUIVRE POUR FABRICATION DE CIRCUIT ÉLECTRONIQUE
(JA) 電子回路及びその形成方法並びに電子回路形成用銅張積層板
Abrégé
(EN) Disclosed is an electronic circuit which is characterized by comprising a copper circuit that is formed by etching and removing a part of a laminate, which is composed of a layer (A) that is composed of a copper or copper alloy foil formed on one surface or both surfaces of a resin substrate, a copper or copper alloy plating layer (B) that is formed on a part of or the entirety of the surface of the layer (A), a plating layer (C) that is formed on a part of or the entirety of the surface of the layer (B) and has an etching rate lower than that of copper with respect to a copper etching liquid, and a copper or copper alloy plating layer (D) that is formed on the layer (C) and has a thickness of 0.05 μm or more but less than 1 μm, to the surface of the resin substrate. Consequently, a circuit having a uniform circuit width can be formed, while improving the etching properties in pattern etching and preventing occurrence of short-circuits or defects in the circuit width.
(FR) L'invention porte sur un circuit électronique qui est caractérisé par le fait qu'il comporte un circuit de cuivre qui est formé par la gravure et l'élimination d'une partie d'un stratifié, qui est composé d'une couche (A) qui est composée d'une feuille de cuivre ou d'un alliage de cuivre formée sur une surface ou sur les deux surfaces d'un substrat de résine, d'une couche de placage de cuivre ou d'alliage de cuivre (B) qui est formée sur une partie ou sur la totalité de la surface de la couche (A), d'une couche de placage (C) qui est formée sur une partie ou sur la totalité de la surface de la couche (B) et présente un taux de gravure inférieur à celui du cuivre par rapport à un liquide de gravure de cuivre, et d'une couche de placage de cuivre ou d'alliage de cuivre (D) qui est formée sur la couche (C) et présente une épaisseur d'au moins 0,05 µm mais inférieure à 1 µm, sur la surface de substrat de résine. Par conséquent, un circuit de largeur de circuit uniforme peut être formé, tout en améliorant les propriétés de gravure dans la gravure d'un motif et en empêchant l'occurrence de courts-circuits ou de défauts dans la largeur du circuit.
(JA) 樹脂基板の片面または両面に形成された銅又は銅合金の箔からなる層(A)、該(A)層上の一部または全面に形成された銅又は銅合金のめっき層(B)、前記(B)層上の一部又は全面に形成された銅エッチング液に対して銅よりもエッチング速度が遅いめっき層(C)、さらに該層(C)上に形成した0.05μm以上、1μm未満の銅又は銅合金のめっき層(D)から構成される積層体であって、前記(A)層、(B)層、(C)層及び(D)層の積層部の一部を樹脂基板表面までエッチングして除去することにより形成された銅回路からなることを特徴とする電子回路。回路幅の均一な回路を形成でき、パターンエッチングでのエッチング性の向上、ショートや回路幅の不良の発生を防止することを課題とする。
Documents de brevet associés
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