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1. WO2011074382 - DISPOSITIF D'ÉCHANTILLONNAGE DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT

Numéro de publication WO/2011/074382
Date de publication 23.06.2011
N° de la demande internationale PCT/JP2010/070792
Date du dépôt international 22.11.2010
CIB
G01N 1/22 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
1Echantillonnage; Préparation des éprouvettes pour la recherche
02Dispositifs pour prélever des échantillons
22à l'état gazeux
G01N 1/00 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
1Echantillonnage; Préparation des éprouvettes pour la recherche
CPC
G01N 1/2252
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
1Sampling; Preparing specimens for investigation
02Devices for withdrawing samples
22in the gaseous state
2247Sampling from a flowing stream of gas
2252in a vehicle exhaust
G01N 2001/2255
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
1Sampling; Preparing specimens for investigation
02Devices for withdrawing samples
22in the gaseous state
2247Sampling from a flowing stream of gas
2252in a vehicle exhaust
2255with dilution of the sample
Déposants
  • 株式会社堀場製作所 HORIBA, Ltd. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • ▲高▼橋 康志 TAKAHASHI, Yasushi [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • ▲高▼橋 康志 TAKAHASHI, Yasushi
Mandataires
  • 西村 竜平 NISHIMURA, Ryuhei
Données relatives à la priorité
2009-28690517.12.2009JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) EXHAUST GAS SAMPLING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ÉCHANTILLONNAGE DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT
(JA) 排ガスサンプリング装置
Abrégé
(EN)
Disclosed is an exhaust gas sampling device capable of setting the dilution rate of sample gas without being limited by the flow compensation ranges of a first flowmeter and a second flowmeter and particularly capable of diluting the sample gas at a low dilution rate. Specifically disclosed is an exhaust gas sampling device provided with a downstream-side dilution tunnel (3) in which part of exhaust gas flowing through an exhaust pipe is introduced as sample gas into a mixing portion (31), a dilution gas flow path (4) which is connected to the upstream side of the downstream-side dilution tunnel (3) and comprises a first flowmeter (FM1), a dilution sample gas flow path (5) which is connected to the downstream side of the downstream-side dilution tunnel (3) and comprises a second flowmeter (FM2), and a dilution gas discharge flow path (6) which is connected to the upstream side of the mixing portion (31) in the downstream-side dilution tunnel (3) and comprises a third flowmeter (FM3).
(FR)
L'invention porte sur un dispositif d'échantillonnage des gaz d'échappement qui permet d'établir le taux de dilution d'un échantillon gazeux sans être limité par les plages de compensation d'écoulement d'un premier débitmètre et d'un deuxième débitmètre et, en particulier, qui permet de diluer l'échantillon gazeux à un taux de dilution faible. L'invention porte plus particulièrement sur un dispositif d'échantillonnage des gaz d'échappement qui est pourvu d'un tunnel de dilution côté aval (3), dans lequel une partie des gaz d'échappement circulant à travers un tuyau d'échappement est introduite en tant qu'échantillon gazeux dans une partie de mélange (31), d'un trajet d'écoulement de gaz de dilution (4) qui est relié au côté amont du tunnel de dilution côté aval (3) et qui comporte un premier débitmètre (FM1), d'un trajet d'écoulement d'échantillon gazeux de dilution (5) qui est relié au côté aval du tunnel de dilution côté aval (3) et qui comporte un deuxième débitmètre (FM2), et d'un trajet d'écoulement d'évacuation de gaz de dilution (6) qui est relié au côté amont de la partie de mélange (31) dans le tunnel de dilution côté aval (3) et qui comporte un troisième débitmètre (FM3).
(JA)
 本発明は、第1流量計と第2流量計との流量補償範囲に制限されることなくサンプルガスの希釈率を設定可能にし、特にサンプルガスを低希釈率で希釈できるようにするものであり、排気管を流れる排ガスの一部がサンプルガスとして混合部31に導入される下流側希釈トンネル3と、下流側希釈トンネル3の上流側に接続されるとともに、第1流量計FM1を有する希釈用気体流路4と、下流側希釈トンネル3の下流側に接続されるとともに、第2流量計FM2を有する希釈サンプルガス流路5と、下流側希釈トンネル3内における混合部31上流側に接続されるとともに、第3流量計FM3を有する希釈用気体排出流路6と、を具備する。
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