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1. (WO2010096591) LITHOGRAPHIE AU STYLO POLYMÈRE EN GEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/096591    N° de la demande internationale :    PCT/US2010/024631
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 18.02.2010
CIB :
B29C 33/38 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : NORTHWESTERN UNIVERSITY [US/US]; 633 Clark Street Evanston, IL 60208 (US) (Tous Sauf US).
MIRKIN, Chad, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
HUO, Fengwei [CN/US]; (US) (US Seulement).
CHEN, Xiaodong [CN/SG]; (SG) (US Seulement)
Inventeurs : MIRKIN, Chad, A.; (US).
HUO, Fengwei; (US).
CHEN, Xiaodong; (SG)
Mandataire : MUCZYNSKI, Michael; Marshall, Gerstein & Borun Llp 233 S. Wacker Drive, Suite 6300 Sears Tower Chicago, IL 60606-6357 (US)
Données relatives à la priorité :
61/153,389 18.02.2009 US
Titre (EN) GEL POLYMER PEN LITHOGRAPHY
(FR) LITHOGRAPHIE AU STYLO POLYMÈRE EN GEL
Abrégé : front page image
(EN)The disclosure relates to methods of printing indicia on a substrate using a tip array comprised of elastomeric, compressible gel polymers. The tip array can be prepared using conventional photolithographic methods and can be tailored to have any desired number and/or arrangement of tips. Numerous copies (e.g., greater than 15,000, or greater than 11 million) of a pattern can be made in a parallel fashion in as little as 40 minutes.
(FR)L'invention porte sur des procédés d'impression d'index sur un substrat à l'aide d'une série de pointes composées de polymères en gel, compressibles et élastomères. La série de pointes peut être préparée au moyen de procédés lithographiques classiques et peut être fabriquée sur mesure de façon à posséder tout nombre et/ou agencement de pointes souhaité. De nombreuses copies (par exemple, plus de 15 000 ou plus de 11 millions) d'un motif peuvent être réalisées de manière parallèle, en 40 minutes seulement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)