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1. (WO2010096363) PROCÉDÉ DE NANOFABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/096363    N° de la demande internationale :    PCT/US2010/024248
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 16.02.2010
CIB :
B82B 3/00 (2006.01), B29C 41/00 (2006.01)
Déposants : ARKEMA INC. [US/US]; 900 First Avenue King of Prussia, Pennsylvania 19406 (US) (Tous Sauf US).
PAPAKONSTANTOPOULOS, George J. [US/US]; (US) (US Seulement).
OLSEN, Adam [US/US]; (US) (US Seulement).
DESPOTOPOULOU, Marina [US/US]; (US) (US Seulement).
JUHASZ, Nikola [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PAPAKONSTANTOPOULOS, George J.; (US).
OLSEN, Adam; (US).
DESPOTOPOULOU, Marina; (US).
JUHASZ, Nikola; (US)
Mandataire : ROLAND, Thomas F.; Arkema Inc. 900 First Avenue King of Prussia, Pennsylvania 19406 (US)
Données relatives à la priorité :
61/153,800 19.02.2009 US
Titre (EN) NANOFABRICATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE NANOFABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a new nanofabrication method especially useful for patterns of two or more different sizes, shapes and/or heights. The method is especially useful for compositions containing block copolymers. The method involves coating the composition onto a multi-patterned substrate, with self-assembly of the polymer components to match the pattern, and the selective removal of the polymer components. A complementary technique is described where a polymer composition comprising domains of different chemical/physical properties can be used to create/change a structure after the application of a stimulus, where the polymeric composition is in bulk form, as a film, or as a coating on an unpatterned or patterned substrate. This structure can be dynamically controlled via the application of the stimulus. The invention is especially useful in the field of integrated circuits, and relates to a means of reducing transistor size and spacing.
(FR)L'invention concerne un nouveau procédé de nanofabrication, tout particulièrement utile pour des motifs d'au moins deux tailles, formes et/ou hauteurs différentes. Le procédé est particulièrement utile pour des compositions contenant des copolymères à blocs. Le procédé entraîne l'application en revêtement de la composition sur un substrat à plusieurs motifs, avec l'autoassemblage des composants polymères pour correspondre au motif, et l'élimination sélective des composants polymères. Une technique complémentaire est décrite où une composition polymère comportant des domaines ayant différentes propriétés chimiques/physiques peut être utilisée pour créer/modifier une structure après l'application d'un stimulus; où la composition polymère se présente en vrac, sous forme d'un film ou sous forme d'un revêtement sur un substrat avec ou sans motifs. Cette structure peut être contrôlée dynamiquement par l'application du stimulus. L'invention est particulièrement utile dans le domaine des circuits intégrés, et concerne un moyen permettant de réduire la taille et l'espacement des transistors. En outre, la présente invention peut trouver des applications dans les revêtements spécialisés qui présentent des propriétés anti-réfléchissantes, de résistance aux salissures, d'adhérence contrôlée et piézoélectriques, et dans des cellules photovoltaïques, dans la production d'énergie et dans des applications de détection, entre autres.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)