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1. (WO2010095671) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT LASER POUR PANNEAUX À CELLULES SOLAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/095671    N° de la demande internationale :    PCT/JP2010/052393
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 10.02.2010
CIB :
B23K 26/36 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/08 (2006.01), H01L 31/04 (2006.01), B23K 101/40 (2006.01)
Déposants : Nisshinbo Holdings Inc. [JP/JP]; 2-31-11, Nihonbashi Ningyo-cho, Chuo-ku, Tokyo 1038650 (JP) (Tous Sauf US).
Nisshinbo Alps Tech Co., Ltd. [JP/JP]; 1349, Okubo-cho, Nishi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4328006 (JP) (Tous Sauf US).
KASAHARA Masato [JP/JP]; (US Seulement).
KATANAHARA Hirotaka [JP/JP]; (US Seulement)
Inventeurs : KASAHARA Masato; .
KATANAHARA Hirotaka;
Données relatives à la priorité :
2009-40044 23.02.2009 JP
Titre (EN) LASER PROCESSING METHOD FOR SOLAR CELL PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT LASER POUR PANNEAUX À CELLULES SOLAIRES
(JA) 太陽電池パネルのレーザ加工方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a laser processing method whereby an arrangement of radiated dots is formed to overlap and assume a staggered alignment, improving the isolation zone forming efficiency. When n rows of radiated dots (D) are formed by a scan with laser light reciprocated in the width direction of a removal machining part (Z) with the radiated dots overlapped, the center positions of the radiated dots of the (m+1)th row of radiated dots are displaced by half of a dot pitch (P) in the direction of the row of radiated dots with respect to the center positions of the radiated dots of the mth row of radiated dots, which is the previously formed row of radiated dots, and the interval between a straight line which connects the center positions of the radiated dots of the mth row of radiated dots and a straight line which connects the center positions of the radiated dots of the (m+1)th row of radiated dots is set at √3/2 times the dot pitch; in addition, the mth row of radiated dots and the (m+1)th row of radiated dots are overlapped, and the aforementioned rows of radiated dots are formed in sequence repeatedly in the direction perpendicular to the width direction of the removal machining part, thus forming an isolation zone at the edge of a solar cell panel.
(FR)L'invention concerne un procédé de traitement laser. Dans le procédé, un agencement de points radiés est formé, en vue d'un chevauchement dans le but d'adopter un alignement en quinconce, par amélioration de l'efficacité de formation d'une zone d'isolement. Lorsque n rangées de points radiés (D) sont formées à l'aide d'un balayage avec de la lumière laser selon un mouvement alternatif dans le sens de la largeur d'un organe d'usinage de retrait (Z) avec les points radiés se chevauchant, les positions de centre des points radiés de la (m+1)ième rangée de points radiés sont déplacées de la moitié d'un écartement des points (P) dans le sens de la rangée de points radiés, par rapport aux positions de centre des points radiés de la mième rangée de points radiés, qui est la rangée de points radiés précédemment formée, et l'intervalle entre une ligne droite qui relie les positions centrales des points radiés de la mième rangée de points radiés et une ligne droite qui relie les positions de centre des points radiés de la (m+1)ième rangée de points radiés étant fixé à √3/2 fois l'écartement des points. En outre, la mième rangée de points radiés et la (m+1)ième rangée de points radiés se chevauchent, et les rangées de points radiés susmentionnées sont formées selon une séquence répétitive dans la direction perpendiculaire au sens de la largeur de l'organe d'usinage de retrait, en formant ainsi une zone d'isolement au bord d'un panneau à cellules solaires.
(JA) レーザ加工時の照射ドットの配列をオーバーラップさせて千鳥配列状となるように形成して、絶縁帯形成効率を向上させること。   レーザ光を除去加工部Zの幅方向に往復スキャンさせ、照射ドットDをオーバーラップさせながらn列の照射ドット列を形成する際に、第(m+1)照射ドット列の照射ドットの中心位置を、その前に形成された照射ドット列である第m照射ドット列の照射ドットの中心位置と、照射ドット列方向に、ドットピッチ(P)の半分ずらし、第m照射ドット列の照射ドットの中心位置を結んだ直線と、第(m+1)照射ドット列の照射ドットの中心位置を結んだ直線との間隔を、ドットピンチの√3/2倍とし、かつ、第m照射ドット列と第(m+1)照射ドット列とをオーバーラップさせ、上記の照射ドット列の形成を除去加工部の幅方向と直角方向に順次繰り返すことによって、太陽電池パネルの端部に絶縁帯を形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)