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1. (WO2010095415) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOULE ET STRUCTURE D'ÉLECTRODE UTILISÉE POUR CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/095415    N° de la demande internationale :    PCT/JP2010/000937
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 16.02.2010
CIB :
C25D 11/04 (2006.01), C25D 11/12 (2006.01), C25D 11/24 (2006.01), C25D 17/10 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
ISURUGI, Akinobu; (US Seulement).
MINOURA, Kiyoshi; (US Seulement)
Inventeurs : ISURUGI, Akinobu; .
MINOURA, Kiyoshi;
Mandataire : OKUDA, Seiji; OKUDA & ASSOCIATES, 10th Floor, Osaka Securities Exchange Bldg., 8-16, Kitahama 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2009-034148 17.02.2009 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING MOLD AND ELECTRODE STRUCTURE USED THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOULE ET STRUCTURE D'ÉLECTRODE UTILISÉE POUR CELUI-CI
(JA) 型の製造方法およびそれに用いられる電極構造
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a mold for moth eye structures, which comprises: a step (a) wherein a porous alumina layer having a plurality of fine recessed portions is formed by anodizing a surface (10a) of an aluminum film or aluminum base via an electrode which is in contact with the surface: a step (b) wherein the plurality of fine recessed portions in the porous alumina layer are enlarged by bringing the porous alumina layer into contact with an etchant after the step (a); and a step (c) wherein the plurality of fine recessed portions are further grown by anodizing the surface via the electrode after the step (b). The step (b) is performed, while controlling such that an electrode part (32a2), which is in contact with the surface in the etchant, is not in contact with the etchant. Consequently, it is possible to prevent formation of defects which are caused by non-uniform corrosion.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication d'un moule pour des structures en œil de papillon. Ledit procédé comprend : une étape (a) dans laquelle une couche d'alumine poreuse ayant une pluralité de fines parties creuses est formée par anodisation d'une surface (10a) d'un film d'aluminium ou d'une base d'aluminium par l'intermédiaire d'une électrode qui est en contact avec la surface ; une étape (b) dans laquelle la pluralité de fines parties creuses dans la couche d'alumine poreuse sont agrandies en mettant la couche d'alumine poreuse en contact avec un agent de gravure après l'étape (a) ; et une étape (c) dans laquelle la pluralité de fines parties creuses sont encore développées par anodisation de la surface par l'intermédiaire de l'électrode après l'étape (b). L'étape (b) est effectuée tout en veillant à ce qu'une partie d'électrode (32a2), qui est en contact avec la surface dans l'agent de gravure, ne soit pas en contact avec l'agent de gravure. Par conséquent, il est possible d'empêcher la formation de défauts qui sont provoqués par une corrosion non uniforme.
(JA) 本発明のモスアイ用型の製造方法は、アルミニウム膜又はアルミニウム基材の表面10aに接触させた電極を介して、表面を陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程aと、工程aの後に、ポーラスアルミナ層を、エッチング液に接触させることによって、ポーラスアルミナ層の複数の微細な凹部を拡大させる工程bと、工程bの後に、電極を介して、表面をさらに陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を成長させる工程cとを包含し、工程bが、エッチング液中において、表面に接触している、電極の部分32a2が、エッチング液に接触しないように制御された状態で行われる。そのことによって、不均一な腐食に起因する欠陥の生成が防止される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)