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1. (WO2010094696) LITHOGRAPHIE NANOPLASMONIQUE EN PARALLÈLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/094696    N° de la demande internationale :    PCT/EP2010/051965
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 17.02.2010
CIB :
G03F 1/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : EUROPEAN NANO INVEST AB [SE/SE]; Fridhemsvägen 2 S-217 74 Malmö (SE) (Tous Sauf US).
MONTELIUS, Lars [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : MONTELIUS, Lars; (SE)
Mandataire : AURELL, Henrik; Albihns AB PO Box 4289 S-203 14 Malmö (SE)
Données relatives à la priorité :
61/153,382 18.02.2009 US
Titre (EN) NANO PLASMONIC PARALLEL LITHOGRAPHY
(FR) LITHOGRAPHIE NANOPLASMONIQUE EN PARALLÈLE
Abrégé : front page image
(EN)A method for replicate a pattern from a pre-patterned surface to a final substrate with in parallel approach lithography, the pre-patterned surface comprises a transparent substrate having a pre-patterned suitable metal; the method comprising the steps of: covering the final substrate with a chemical composition (resist) that is sensitive to Plasmon emitted light or waves; bringing the pre-patterned surface and the final substrate together to a proximity distance in the nanometer range, preferably 0 to 30nm or more preferably 0 to 10nm from the surface; illuminating the pre-patterned surface with plasmonic emitted light or waves, and exposing the final substrate to the plasmonic emitted light or waves to make a replica from the said pre-patterned surface.
(FR)L'invention concerne un procédé pour reproduire un motif à partir d'une surface à motifs préformés sur un substrat final par lithographie à approche parallèle. La surface à motifs préformés comprend un substrat transparent constitué d'un métal approprié qui présente des motifs préformés. Le procédé comprend les étapes suivantes : recouvrir le substrat final d'une composition chimique (résine) qui est sensible à une lumière ou des ondes émises par un plasmon; ramener la surface à motifs préformés et le substrat final à une distance située dans la plage nanométrique, de préférence 0 à 30nm ou idéalement de 0 à 10nm de la surface; éclairer la surface à motifs préformés avec la lumière ou les ondes émises par le plasmon, et exposer le substrat final à la lumière ou les ondes émises par le plasmon pour reproduire la surface à motifs préformés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)