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1. (WO2010094692) PROCÉDÉ DE DÉCONTAMINATION DE SURFACES CONTAMINÉES PAR RADIOACTIVITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/094692    N° de la demande internationale :    PCT/EP2010/051957
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 17.02.2010
CIB :
G21F 9/00 (2006.01), G21F 9/28 (2006.01), G21F 9/30 (2006.01)
Déposants : AREVA NP GMBH; Paul-Gossen-Straße 100 91052 Erlangen (DE) (Tous Sauf US).
GASSEN, Rainer [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SEMPERE BELDA, Luis [ES/DE]; (DE) (US Seulement).
SCHWEIGHOFER, Werner [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ZEILER, Bertram [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : GASSEN, Rainer; (DE).
SEMPERE BELDA, Luis; (DE).
SCHWEIGHOFER, Werner; (DE).
ZEILER, Bertram; (DE)
Mandataire : MÖRTEL & HÖFNER; Äußere Sulzbacher Str. 159/161 90491 Nürnberg (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2009 009 441.5 18.02.2009 DE
10 2009 002 681.9 28.04.2009 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR DEKONTAMINATION RADIOAKTIV KONTAMINIERTER OBERFLÄCHEN
(EN) METHOD FOR DECONTAMINATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED SURFACES
(FR) PROCÉDÉ DE DÉCONTAMINATION DE SURFACES CONTAMINÉES PAR RADIOACTIVITÉ
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur chemischen Dekontamination der Oberfläche eines metallischen Bauteils, bei dem - in einer ersten Behandlungsstufe eine auf dem Bauteil durch Korrosion des Bauteilmaterials entstandene Oxidschicht mit einer eine organische Dekontaminationssäure enthaltenen ersten wässerigen Behandlungslösung von der Bauteiloberfläche abgelöst wird, und - in einer sich daran anschließenden zweiten Behandlungsstufe die zumindest teilweise von der Oxidschicht befreite Oberfläche mit einer wässerigen Lösung behandelt wird, die eine Wirkkomponente zur Entfernung von an der Oberfläche haftenden Partikeln enthält, wobei die Wirkkomponente aus wenigstens einem anionischen Tensid aus der Gruppe SuIfonsäuren, Phosphonsäuren, Carbonsäuren und Salze dieser Säuren besteht.
(EN)The invention relates to a method for chemically decontaminating the surface of a metal component, wherein, in a first treatment step, an oxide layer formed on the component by corrosion of the material of said component is removed from the surface of the component by means of a first aqueous treatment solution containing an organic decontamination acid and in a subsequent second treatment step, the surface at least partially free of the oxide layer is treated with an aqueous solution containing an active component for removing particles which adhere to the surface. The active component consists of at least one anionic surfactant from the group consisting of sulphonic acids, phosphonic acids, carboxylic acids and salts of said acids.
(FR)L'invention concerne un procédé de décontamination chimique de la surface d'une pièce métallique, procédé selon lequel, au cours d'une première étape de traitement, une couche d'oxyde formée sur la pièce par la corrosion du matériau de la pièce est enlevée de la surface de la pièce à l'aide d'une première solution de traitement aqueuse contenant un acide de décontamination organique et, au cours d'une seconde étape de traitement subséquente, la surface au moins partiellement débarrassée de la couche d'oxyde est traitée à l'aide d'une solution aqueuse contenant un constituant actif permettant l'élimination des particules adhérant à la surface, le constituant actif étant composé d'au moins un tensioactif anionique du groupe constitué par les acides sulfoniques, les acides phosphoniques, les acides carboxyliques et les sels de ces acides.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)