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1. (WO2010094658) CONTRÔLE DE MIROIRS PIVOTANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/094658    N° de la demande internationale :    PCT/EP2010/051876
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 15.02.2010
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
HORN, Jan [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MAJOR, András G. [HU/DE]; (DE) (US Seulement).
KEMPTER, Christian [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
BIHR, Ulrich [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HORN, Jan; (DE).
MAJOR, András G.; (DE).
KEMPTER, Christian; (DE).
BIHR, Ulrich; (DE)
Mandataire : LANG, Christian; LangRaible IP Law Firm Rosenheimer Strasse 139 81671 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2009 009 372.9 18.02.2009 DE
Titre (DE) MONITORING VON KIPPBAREN SPIEGELN
(EN) MONITORING OF TILTABLE MIRRORS
(FR) CONTRÔLE DE MIROIRS PIVOTANTS
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung sowie ein entsprechendes Verfahren zur Überwachung der Orientierung mindestens eines Spiegels (4), insbesondere einer Vielzahl von Spiegeln in einem Spiegelfeld, wie es beispielsweise in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie eingesetzt werden kann. Gemäß der Erfindung wird eine Erfassungseinrichtung (1) zur Erfassung des von dem Spiegel reflektierten Lichts vorgesehen, wobei eine Musterquelle (2) angeordnet ist, die ein Muster (3) mit räumlicher und/oder zeitlich variablen Lichtquellen bereitstellt, welches von dem mindestens einen Spiegel auf die Erfassungseinrichtung gespiegelt wird. Aus dem von der Erfassungseinrichtung erfassten Spiegelbild kann die Orientierung des Spiegels ermittelt werden.
(EN)The present invention relates to a device and a corresponding method for monitoring the orientation of at least one mirror (4), in particular a plurality of mirrors in a mirror field, such as can be used in a projection exposure system for microlithography. According to the invention, a detection device (1) for detecting the light reflected by the mirror is provided, wherein a pattern source (2) is disposed, which can provide a pattern (3) with space- and/or time-variable light sources, said pattern being mirrored by the at least one mirror on the detection device. The orientation of the mirror can be determined based on the mirrored image detected by the detection device.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé correspondant de contrôle de l'orientation d'au moins un miroir (4), notamment d'une pluralité de miroirs dans un champ de miroirs tel qu'utilisé par exemple dans un système d'éclairage par projection pour la microlithographie. Selon l'invention, un dispositif de détection (1) est prévu pour détecter la lumière réfléchie par le miroir, et une source de motif (2) fournit un motif (3) au moyen de sources de lumière variables dans l'espace et/ou dans le temps, le motif étant réfléchi par le ou les miroirs sur le dispositif de détection. L'orientation du miroir peut être déterminée à partir de l'image réfléchie détectée par le dispositif de détection.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)