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1. (WO2010094347) MATÉRIAU DE SUPPORT DE SUBSTRAT AMÉLIORÉ UTILISÉ DANS DES PROCESSUS DE SÉRIGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/094347    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/056331
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 25.05.2009
CIB :
H05K 3/12 (2006.01), B41F 15/20 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
BACCINI, Andrea [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
GALIAZZO, Marco [IT/IT]; (IT) (US Seulement)
Inventeurs : BACCINI, Andrea; (IT).
GALIAZZO, Marco; (IT)
Mandataire : PETRAZ, Gilberto; GLP SRL Piazzale Cavedalis, 6/2 I-33100 Udine (IT)
Données relatives à la priorité :
UD2009A000045 23.02.2009 IT
Titre (EN) IMPROVED SUBSTRATE SUPPORT MATERIAL USEFUL FOR SCREEN PRINTING PROCESSES
(FR) MATÉRIAU DE SUPPORT DE SUBSTRAT AMÉLIORÉ UTILISÉ DANS DES PROCESSUS DE SÉRIGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a support material (137) used to support a substrate (150) during processing. The support material (137) comprises a non-woven material comprising a top region and a bottom region, wherein the top region (420) is less resilient than the bottom region (410). The non-woven material also has a first surface (141A) adjacent to the top region, and a first end and a second end. In some embodiments, the bottom region comprises a synthetic fabric and the top region comprises a polymeric material. Other embodiments of the invention include an apparatus and methods for processing substrates in a screen printing chamber that can deliver a repeatable and accurate screen printed pattern on one or more processed substrates using a non- woven support material. In one embodiment, the screen printing chamber is adapted to perform a screen printing process within a portion of a crystalline silicon solar cell production line in which a substrate is patterned with a desired material.
(FR)La présente invention concerne un matériau de support (137) utilisé pour soutenir un substrat (150) au cours d'un traitement. Le matériau de support (137) comprend un matériau non tissé comprenant une région supérieure et une région inférieure, la région supérieure (420) étant moins élastique que la région inférieure (410). Le matériau non-tissé comporte également une première surface (141A) adjacente à la région supérieure, ainsi qu'une première et une deuxième extrémité. Selon certaines réalisations, la région inférieure comprend un tissu synthétique et la région supérieure un matériau polymère. D'autres réalisations de l'invention comprennent un appareil et des procédés de traitement de substrats dans une chambre de sérigraphie qui peut produire un motif sérigraphié répétitif et précis sur un ou plusieurs substrats traités à l'aide d'un matériau de support non tissé. Selon une autre réalisation, la chambre de sérigraphie est adaptée pour réaliser un processus de sérigraphie à l'intérieur d'une partie d'une ligne de production de piles solaires de silicium cristallin, procédé selon lequel un substrat est imprimé de motifs au moyen d'un matériau désiré.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)