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1. (WO2010094102) DISPOSITIF DE PRÉHENSION ET DE LIBÉRATION ACTIVE DE MICRO- ET DE NANO-OBJETS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/094102    N° de la demande internationale :    PCT/CA2009/000181
Date de publication : 26.08.2010 Date de dépôt international : 17.02.2009
CIB :
B81B 7/02 (2006.01), B25J 7/00 (2006.01), B81B 5/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), H01L 21/60 (2006.01)
Déposants : THE GOVERNING COUNCIL OF THE UNIVERSITY OF TORONTO [CA/CA]; Simcoe Hall, Room 133S 27 King's College Circle Toronto, Ontario M5S 1A1 (CA) (Tous Sauf US).
SUN, Yu [CA/CA]; (CA) (US Seulement).
CHEN, K. Brandon [CA/CA]; (CA) (US Seulement).
ZHANG, Yong [CA/CA]; (CA) (US Seulement)
Inventeurs : SUN, Yu; (CA).
CHEN, K. Brandon; (CA).
ZHANG, Yong; (CA)
Mandataire : DE FAZEKAS, Antony; Miller Thomson LLP Scotia Plaza, 40 King Street West Suite 5800. P.O. Box 1011 Toronto, Ontario M5H 3S1 (CA)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DEVICE FOR GRASPING AND ACTIVE RELEASE OF MICRO AND NANO OBJECTS
(FR) DISPOSITIF DE PRÉHENSION ET DE LIBÉRATION ACTIVE DE MICRO- ET DE NANO-OBJETS
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to design and microfabrication methods for forming devices that are capable of grasping and actively releasing micro or nanometer-sized objects in ambient and vacuum environments. Grasping motion is produced by one or more microactuators, and rapid, accurate, highly reproducible active release is achieved through impacting an adhered object with a high-speed plunging structure. Two fabrication processes for constructing these new types of micro and nano gripping devices are also described.
(FR)La présente invention concerne des procédés de conception et de micro-façonnage destinés à former des dispositifs capables de saisir et de libérer activement des objets de taille micrométrique ou nanométrique dans un environnement ambiant et sous vide. Le mouvement de préhension est produit par un ou plusieurs micro-actionneurs et une libération active rapide, précise et hautement reproductible est réalisée par l'intermédiaire d'un impact sur un objet adhérent à l'aide d'une structure plongeante à grande vitesse. Deux processus de façonnage destinés à construire ces nouveaux types de dispositifs de préhension micrométrique ou nanométrique sont également décrits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)