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1. (WO2010092384) BARRIÈRE À DEUX COUCHES SUR UN SUBSTRAT POLYMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/092384    N° de la demande internationale :    PCT/GB2010/050208
Date de publication : 19.08.2010 Date de dépôt international : 10.02.2010
CIB :
C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/02 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM MANUFACTURING EUROPE BV [--/NL]; 90156 Oudenstaart 1 NL-5047 TK Tilburg (NL) (Tous Sauf US).
FUJIFILM IMAGING COLORANTS LIMITED [--/GB]; PO Box 42 Hexagon Tower Blackley Manchester M9 8ZS (GB) (MZ only).
DE VRIES, Hindrik [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN DE SANDEN, Mauritius [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : DE VRIES, Hindrik; (NL).
VAN DE SANDEN, Mauritius; (NL)
Mandataire : MAYALL, John; Fujifilm Imaging Colorants Limited PO Box 42 Hexagon Tower Blackley Manchester Greater Manchester M9 8ZS (GB)
Données relatives à la priorité :
09152674.9 12.02.2009 EP
Titre (EN) TWO LAYER BARRIER ON POLYMERIC SUBSTRATE
(FR) BARRIÈRE À DEUX COUCHES SUR UN SUBSTRAT POLYMÈRE
Abrégé : front page image
(EN)Plasma treatment apparatus and method for producing a polymeric substrate using an atmospheric pressure glow discharge plasma in a treatment space formed between two or more opposing electrodes connected to a power supply using a gas composition in the treatment space comprising a precursor and oxygen.A first layer of inorganic material is deposited on a polymeric substrate with a largest thickness (d3) of at least 100% of an Rt- value being defined as the maximum peak to valley height of the profile of the polymeric substrate measured substantially perpendicular to the surface of the polymeric substrate.A second layer of inorganic material is deposited on the first layer, wherein in the treatment space the oxygen has a concentration of 3% or higher, and the power supply is controlled to provide an energy across a gap between the two or more opposing electrodes of 40 J/cm2 or higher.
(FR)La présente invention a pour objet un appareil de traitement au plasma et un procédé de production d'un substrat polymère utilisant un plasma à décharge luminescente à la pression atmosphérique dans un espace de traitement formé entre deux électrodes opposées ou plus, reliées à une source d'alimentation au moyen d'une composition gazeuse dans l'espace de traitement comprenant un précurseur et de l'oxygène. Une première couche de matière inorganique est déposée sur un substrat polymère ayant une épaisseur la plus grande (d3) d'au moins 100 % d'une Rt- valeur définie comme la profondeur de rugosité maximale du profil du substrat polymère mesurée de manière sensiblement perpendiculaire à la surface du substrat polymère. Une seconde couche de matière inorganique est déposée sur la première couche. L'oxygène dans l'espace de traitement a une concentration de 3 % ou plus, et la source d'alimentation est commandée pour fournir une énergie à travers un espace entre les deux électrodes opposées ou plus de 40 J/cm2 ou plus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)