WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010091927) COMPOSITIONS DE RÉSERVE PHOTOSENSIBLE ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/091927    N° de la demande internationale :    PCT/EP2010/050712
Date de publication : 19.08.2010 Date de dépôt international : 22.01.2010
CIB :
C08F 2/00 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504 (US) (Tous Sauf US).
IBM UNITED KINGDOM LIMITED [GB/GB]; P.O. Box 41, North Harbour Portsmouth Hampshire PO6 3AU (GB) (MG only).
ITO, Hiroshi [JP/US]; (US) (US Seulement).
FUJIWARA, Masaki [JP/US]; (US) (US Seulement).
YAMANAKA, Kazuhiro [JP/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ITO, Hiroshi; (US).
FUJIWARA, Masaki; (US).
YAMANAKA, Kazuhiro; (US)
Mandataire : BURT, Roger, James; IBM United Kingdom Limited Intellectual Property Law Hursley Park Winchester Hampshire SO21 2JN (GB)
Données relatives à la priorité :
12/369,150 11.02.2009 US
Titre (EN) PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS OF USE
(FR) COMPOSITIONS DE RÉSERVE PHOTOSENSIBLE ET LEURS PROCÉDÉS D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)A photoresist composition comprises a polymer capable of radiation induced main chain scission and acid-catalyzed deprotection, wherein the polymer is derived by free radical polymerization of two or more monomers, each having an alpha-substituent on a polymerizable vinyl group; and a photochemical acid generator.
(FR)L'invention porte sur une composition de réserve photosensible comprenant un polymère apte à subir une coupure de chaîne principale induite par un rayonnement et une déprotection catalysée par un acide, le polymère étant issu d'une polymérisation radicalaire de deux ou plus de deux monomères, ayant chacun un substituant en alpha sur un groupe vinyle polymérisable; et un générateur photochimique d'acide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)