WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010091711) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'EXPOSER UNE SURFACE D'UN MATÉRIAU PHOTOVOLTAÏQUE À UNE ÉNERGIE LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/091711    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/009179
Date de publication : 19.08.2010 Date de dépôt international : 21.12.2009
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), H01L 31/20 (2006.01), H01L 31/0336 (2006.01)
Déposants : EXCICO GROUP [BE/BE]; RCH (Research Campus Hasselt) Kempischesteenweg 305/2 B-3500 Hasselt (BE) (Tous Sauf US).
RACK, Simon [BE/BE]; (BE) (US Seulement)
Inventeurs : RACK, Simon; (BE)
Mandataire : BIIP CVBA; Culliganlaan 1B B-1831 Diegem (BE)
Données relatives à la priorité :
09305133.2 12.02.2009 EP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR IRRADIATING A PHOTOVOLTAIC MATERIAL SURFACE BY LASER ENERGY
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'EXPOSER UNE SURFACE D'UN MATÉRIAU PHOTOVOLTAÏQUE À UNE ÉNERGIE LASER
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is related to a method for manufacturing TF-PV material comprising: - providing a TF-PV material layer having a degree of crystallinity, and - irradiating a surface region of the TF-PV material layer by means of a laser source having irradiation parameters, characterized in that the irradiation parameters are selected such that the degree of crystallinity is increased at least at a top layer of the surface region.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un matériau TF-PV, le procédé consistant à utiliser une couche d'un matériau TF-PV possédant un degré donné de cristallinité, et à exposer une région de surface de ladite couche à une source laser possédant des paramètres d'exposition, le procédé étant caractérisé en ce que les paramètres d'exposition sont sélectionnés de façon que le degré de cristallinité soit augmenté au moins sur une couche supérieure de la région de surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)