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1. (WO2010090545) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN JET GAZEUX À ENTHALPIE ÉLEVÉE BASÉ SUR UNE DÉCHARGE GAZEUSE À IMPULSIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/090545    N° de la demande internationale :    PCT/RU2009/000051
Date de publication : 12.08.2010 Date de dépôt international : 05.02.2009
CIB :
H05H 1/24 (2006.01), F02P 9/00 (2006.01)
Déposants : NEQ LAB HOLDING INC.; Commonwealth Trust Ltd. P.O.Box 3321 Road Town Tortola (VG) (Tous Sauf US).
STARIKOVSKY, Andrey Yurievich [RU/RU]; (RU) (US Seulement)
Inventeurs : STARIKOVSKY, Andrey Yurievich; (RU)
Mandataire : MORSKAYA, Olga Glebovna; a/ya 64, Moscow, 123557 (RU)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) FORMATION METHOD OF HIGH ENTHALPY GAS JET BASED ON PULSE GAS DISCHARGE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN JET GAZEUX À ENTHALPIE ÉLEVÉE BASÉ SUR UNE DÉCHARGE GAZEUSE À IMPULSIONS
Abrégé : front page image
(EN)To broaden the method application range, in particular to ensure application of the method in gas turbine engines and burners to initiate and intensify combustion of fuel-air mixture, plasma-forming gas is sent into a discharge gap with a pulse gas discharge excited in nanosecond duration range by applying high-voltage pulses to discharge gap electrodes at significant gap overvoltage (by 2-10 times).
(FR)Selon l'invention, pour élargir le champ d'application du procédé, en particulier pour garantir l'application du procédé dans des moteurs à turbine à gaz et des brûleurs dans le but de déclencher et d'intensifier la combustion d'un mélange combustible-air, un gaz de formation de plasma est envoyé dans un espace de décharge avec une décharge gazeuse à impulsions excitée dans une plage de durée de l'ordre de la nanoseconde par l'application d'impulsions haute tension sur des électrodes à espace de décharge avec une surtension significative d'espace de décharge (de 2 à 10 fois).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)