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1. (WO2010088462) FORMATION IN SITU ET DÉPÔT DE PALLADIUM PD(0) DANS DES RÉACTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/088462    N° de la demande internationale :    PCT/US2010/022504
Date de publication : 05.08.2010 Date de dépôt international : 29.01.2010
CIB :
B01J 23/44 (2006.01)
Déposants : CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza Corning, New York 14831 (US) (Tous Sauf US).
HORN, Clemens, R. [DE/FR]; (FR) (US Seulement).
CERATO-NOYERIE, Carine [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : HORN, Clemens, R.; (FR).
CERATO-NOYERIE, Carine; (FR)
Mandataire : ADUSEI-POKU, Kwadjo; CORNING INCORPORATED Intellectual Property Department SP-TI-3-1 Corning, New York 14831 (US)
Données relatives à la priorité :
09305091.2 30.01.2009 EP
Titre (EN) IN SITU FORMATION AND DEPOSITION OF PALLADIUM Pd(0) IN REACTORS
(FR) FORMATION IN SITU ET DÉPÔT DE PALLADIUM PD(0) DANS DES RÉACTEURS
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates mainly to a process for the in situ generation of a catalyst (Pd(0)) and the deposition of said catalyst on the internal wall(s) of a glass, glass-ceramic or ceramic reactor. The invention further relates to a reactor, preferably a microfluidic device, as may be obtained by the in situ generation and deposition of palladium Pd(0) on its internal wall(s) carried out according to said process. The invention also globally concerns catalytic processes including said process.
(FR)L'invention concerne principalement un procédé pour la génération in situ d'un catalyseur (Pd(0)) et le dépôt dudit catalyseur sur la ou les parois internes d'un réacteur en verre, vitrocéramique ou céramique. L'invention porte en outre sur un réacteur, de préférence un dispositif microfluidique, tel qu'il peut être obtenu par la génération in situ et le dépôt de palladium Pd(0) sur sa ou ses parois internes, conformément audit procédé. L'invention concerne également de façon générale des procédés catalytiques comprenant ledit procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)