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1. (WO2010087339) COMPOSÉ ALICYCLIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, COMPOSITION CONTENANT CELUI-CI ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE UTILISANT CE COMPOSÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/087339    N° de la demande internationale :    PCT/JP2010/050977
Date de publication : 05.08.2010 Date de dépôt international : 26.01.2010
CIB :
C07J 9/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), C09D 199/00 (2006.01)
Déposants : IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP) (Tous Sauf US).
TANAKA, Shinji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURAKAMI, Miki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKUSHIMA, Kazuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWANO, Naoya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TANAKA, Shinji; (JP).
MURAKAMI, Miki; (JP).
FUKUSHIMA, Kazuya; (JP).
KAWANO, Naoya; (JP)
Mandataire : OHTANI, Tamotsu; OHTANI PATENT OFFICE, Bridgestone Toranomon Bldg. 6F., 25-2, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2009-020592 30.01.2009 JP
Titre (EN) ALICYCLIC COMPOUND, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, COMPOSITION CONTAINING SAME AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING SAME
(FR) COMPOSÉ ALICYCLIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, COMPOSITION CONTENANT CELUI-CI ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE UTILISANT CE COMPOSÉ
(JA) 脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an alicyclic compound in which a cholic acid ester structure-containing group is bound to an adamantane skeleton, method for manufacturing the same, composition containing the same, and resist pattern formation method using the same, that provide an alicyclic compound which has superior solvent properties, light exposure sensitivity, resolution, roughness, and heat resistance, etc., and especially excellent dissolution inhibiting effect against development fluids, and is useful as a positive photoresist monomer or dissolution inhibitor used in semiconductor device fabrication, and that provide a method for manufacturing the same, composition containing the same, and resist pattern formation method using the same.
(FR)L'invention se réfère à un composé alicyclique dans lequel un groupe contenant une structure d'ester d'acide cholique est lié à un squelette d'adamantane, à un procédé de fabrication de composé, à une composition contenant celui-ci et à un procédé de formation de motif de résine photosensible utilisant celui-ci. L'invention concerne un composé alicyclique présentant des propriétés supérieures de solvant, de sensibilité à l'exposition à la lumière, de résolution, de rugosité et de résistante thermique, etc., et spécialement un excellent effet d'inhibition de dissolution de fluides de développement, et qui est utile comme monomère de résine photosensible positive ou comme inhibiteur de dissolution destiné à la fabrication de semi-conducteurs; et un procédé de fabrication de ce composé, une composition contenant celui-ci et un procédé de formation de motif de résine photosensible utilisant ce composé.
(JA) アダマンタン骨格にコール酸類エステル構造含有基が結合した脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法により、半導体装置製造に用いられるポジ型フォトレジスト用モノマーあるいは溶解抑止剤などとして有用な、溶解特性、露光感度、解像度、ラフネス、耐熱性等に優れ、特に現像液に対する溶解抑止効果に優れた脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)