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1. (WO2010085764) PROCÉDÉ, APPAREIL, ET COMPOSITIONS DE FABRICATION DE REVÊTEMENTS ANTI-RÉFLÉCHISSANTS POUR DES SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/085764    N° de la demande internationale :    PCT/US2010/022010
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 25.01.2010
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), B32B 27/08 (2006.01), C09D 5/32 (2006.01), C03C 17/32 (2006.01), C09J 7/02 (2006.01)
Déposants : STATE OF OREGON ACTING BY ANDTHROUGH THE STATE BOARD OF HIGHER EDUCATION on behalf of OREGON STATE UNIVERSITY [US/US]; 312 Kerr Administration Building Corvallis, OR 97331-2140 (US) (Tous Sauf US).
CHANG, Chih-Hung [--/US]; (US) (US Seulement).
HAN, Seung-Yeol [KR/US]; (US) (US Seulement).
PAUL, Brian, K. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHANG, Chih-Hung; (US).
HAN, Seung-Yeol; (US).
PAUL, Brian, K.; (US)
Mandataire : GARDNER, Gillian; Klarquist Sparkman, LLP One World Trade Center, Suite 1600 121 SW Salmon Street Portland, OR 97204 (US)
Données relatives à la priorité :
61/205,766 23.01.2009 US
Titre (EN) METHOD, APPARATUS, AND COMPOSITIONS MAKING ANTI-REFLECTIVE COATINGS FOR SUBSTRATES
(FR) PROCÉDÉ, APPAREIL, ET COMPOSITIONS DE FABRICATION DE REVÊTEMENTS ANTI-RÉFLÉCHISSANTS POUR DES SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the present system and method are useful for chemical deposition, particularly continuous deposition of anti-reflective films. Disclosed systems typically comprise a micromixer and a microchannel applicator. A deposition material or materials is applied to a substrate, such as aluminum, glass, silicon, or polycarbonate, to form a nanostructured, anti-reflective coating. Uniform and highly oriented surface morphologies of films deposited using disclosed embodiments are clearly improved compared to films deposited by a conventional batch process. In some embodiments, an anti-reflective coating is applied to a surface of a solar catalytic microreactor suitable for performing endothermic reactions, where energy is provided to the reactor by absorption of solar radiation. The process can be used to tailor the composition and morphology of the material deposited on a substrate. The present process can be used at low temperatures as a post-deposition, high-temperature annealing step is obviated.
(FR)Les modes de réalisation du présent système et du présent procédé sont utiles pour le dépôt chimique, notamment le dépôt continu de film anti-réfléchissants. La présente invention concerne des systèmes qui comprennent généralement un micromixeur et un applicateur de microcanaux. Un matériau ou des matériaux de dépôt sont appliqués à un substrat, tel que l'aluminium, le verre, le silicium, ou le polycarbonate, pour former un revêtement anti-réfléchissant nanostructuré. Les morphologies de surface uniformes et hautement orientées des films déposés à l'aide des modes de réalisation décrits sont clairement améliorées par rapport à celles des films déposés par un procédé discontinu habituel. Dans certains modes de réalisation, un revêtement anti-réfléchissant est appliqué à une surface d'un microréacteur catalytique solaire adapté pour réaliser des réactions endothermiques, l'énergie étant fournie au réacteur par absorption des rayons solaires. Le procédé peut être utilisé pour personnaliser la composition et la morphologie du matériau déposé sur un substrat. Le présent procédé peut être utilisé à des températures faibles lorsqu'une étape d'annelage post-dépôt à température élevée est évitée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)