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1. (WO2010085714) EDITION DE PRÉSENTATION PRÉ-OPC POUR FIDÉLITÉ D'IMAGE AMÉLIORÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/085714    N° de la demande internationale :    PCT/US2010/021896
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 22.01.2010
CIB :
G03F 1/00 (2012.01), G03F 1/36 (2012.01)
Déposants : MENTOR GRAPHICS CORPORATION [US/US]; 8005 S.w. Boeckman Road Wilsonville, OR 97070-7777 (US) (Tous Sauf US).
ABD EL WAHED, Shady [EG/EG]; (EG) (Tous Sauf US).
KANG, Jaehyun [KR/KR]; (KR)
Inventeurs : ABD EL WAHED, Shady; (EG).
KANG, Jaehyun; (KR)
Données relatives à la priorité :
61/146,532 22.01.2009 US
Titre (EN) PRE-OPC LAYOUT EDITING FOR IMPROVED IMAGE FIDELITY
(FR) EDITION DE PRÉSENTATION PRÉ-OPC POUR FIDÉLITÉ D'IMAGE AMÉLIORÉE
Abrégé : front page image
(EN)An optical proximity correction operation is performed on a layout design, and faults created by the design are identified. If the faults occur where the optical proximity correction was constrained by a mask rule, then the layout design data is edited so that violation of the mask rule is avoided. Once the original layout design has been edited, another optical proximity correction operation is then performed on the edited layout design data. In this subsequent optical proximity correction operation, a simulated image is generated using the edited layout design data, but this simulated image is compared with the target image of the original layout design data rather than the edited layout design data.
(FR)L'invention concerne une opération de correction de proximité optique effectuée sur une conception de présentation, et l'identification des défauts créés par la conception. Si les défauts se produisent là où la correction de proximité optique était contrainte par une règle de masque, alors les données de conception de présentation sont éditées pour éviter une violation de la règle de masque. Une fois la conception de présentation d'origine éditée, une autre opération de correction de proximité optique est ensuite effectuée sur les données de conception de présentation éditées. Dans cette opération de correction de proximité optique ultérieure, une image simulée est générée à l'aide de données de conception de présentation éditées, mais cette image simulée est comparée à l'image cible des données de conception de présentation d'origine plutôt que des données de conception de présentation éditées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)