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1. (WO2010084924) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT POUR DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, SUBSTRAT POUR DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2010/084924    International Application No.:    PCT/JP2010/050730
Publication Date: 29 juil. 2010 International Filing Date: 21 janv. 2010
IPC: C03C 17/04
H01L 51/50
H05B 33/02
Applicants: Asahi Glass Company, Limited.
旭硝子株式会社
NAKAMURA Nobuhiro
中村 伸宏
YAMADA Kenji
山田 兼士
MATSUMOTO Syuji
松本 修治
Inventors: NAKAMURA Nobuhiro
中村 伸宏
YAMADA Kenji
山田 兼士
MATSUMOTO Syuji
松本 修治
Title: PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT POUR DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, SUBSTRAT POUR DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L'invention concerne un procédé de production d'un substrat hautement fiable pour dispositifs électroniques avec une couche de dispersion, ledit substrat pour dispositifs électroniques étant caractérisé par un rendement amélioré d'extraction de la lumière et étant susceptible d'être produit aisément. Le procédé comporte : une étape où du verre en fusion est produit en chauffant et en faisant fondre un précurseur de verre ou un verre ; une étape de mise en forme où un ruban continu (6) de verre est formé en amenant en continu le verre en fusion à la surface de bain d'un récipient de métal en fusion contenant un métal en fusion ; une étape où une couche de dispersion est formée en amenant une poudre (M) de verre présentant une composition souhaitée sur le ruban continu (6) de verre et en faisant fondre ou en frittant la poudre (M) de verre ; une étape où le ruban continu de verre pourvu de la couche de dispersion est lentement refroidi ; et une étape où le ruban continu de verre refroidi lentement pourvu de la couche de dispersion est découpé pour donner un substrat en verre pourvu d'une couche de dispersion.