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1. (WO2010084627) AUTOANALYSEUR, DISPOSITIF PHOTOMÉTRIQUE ET PROCÉDÉ PHOTOMÉTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/084627    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/055633
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 23.03.2009
CIB :
G01N 21/59 (2006.01)
Déposants : Beckman Coulter, Inc. [US/US]; 250 S. Kraemer Boulevard, Brea, California 92821 (US) (Tous Sauf US).
ISHIBE, Isao [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIBE, Isao; (JP)
Mandataire : YAMAMOTO Shusaku; Fifteenth Floor, Crystal Tower, 2-27, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406015 (JP)
Données relatives à la priorité :
2009-010812 21.01.2009 JP
Titre (EN) AUTOANALYZER, PHOTOMETRIC DEVICE AND PHOTOMETRIC METHOD
(FR) AUTOANALYSEUR, DISPOSITIF PHOTOMÉTRIQUE ET PROCÉDÉ PHOTOMÉTRIQUE
(JA) 自動分析装置、測光装置および測光方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are an autoanalyzer, a photometric device and a photometric method which enable an improvement in analytical precision by performing an analysis by applying measurement light that is a uniform parallel beam perpendicular to a reactor container to the reactor container. A photometric device (17) of an autoanalyzer (1) is provided with a light source lens (17b) for collecting measurement light applied from a light source (17a), a condenser lens (17e) for applying the measurement light collected by the light source lens (17b) as parallel light to a reaction container (36), a condenser aperture (17d) for adjusting the amount of the measurement light to be applied, and a field stop (17c) for adjusting the range of application of the measurement light to the reaction container (36). The light source (17a), the light source lens (17b), the field stop (17c), the condenser aperture (17d), the condenser lens (17e), and the reaction container (36) are disposed so as to configure a Koehler illumination system.
(FR)La présente invention concerne un autoanalyseur, un dispositif photométrique et un procédé photométrique qui permettent une amélioration de la précision analytique par réalisation d'une analyse en appliquant une lumière de mesure qui est un faisceau parallèle uniforme, perpendiculaire à un récipient de réaction. Un dispositif photométrique (17) d'un autoanalyseur (1) est doté d'une lentille pour source de lumière (17b) destinée à collecter la lumière de mesure appliquée d'une source de lumière (17a), d'une lentille de condensateur (17e) destinée à appliquer la lumière de mesure collectée par la lentille pour source de lumière (17b) comme une lumière parallèle à un récipient de réaction (36), une ouverture de condensateur (17d) destinée à ajuster la quantité de lumière de mesure à appliquer, et un obturateur de champ (17c) destiné à ajuster la plage d'application de la lumière de mesure au récipient de réaction (36). La source de lumière (17a), la lentille pour source de lumière (17b), l'obturateur de champ (17c), l'ouverture de condensateur (17d), la lentille de condensateur (17e), et le récipient de réaction (36) sont disposés de manière à configurer un système d'illumination de Koehler.
(JA) 反応容器に垂直で一様な平行光線である測定光を照射して分析を行うことにより、分析精度を向上しうる自動分析装置、測光装置および測光方法を提供する。この目的のために、自動分析装置1の測光装置17は、光源17aから照射された測定光を集光する光源レンズ17bと、光源レンズ17bにより集光された測定光を平行光として反応容器36に照射するコンデンサレンズ17eと、照射する測定光量を調整するコンデンサ絞り17dと、反応容器36への測定光の照射範囲を調整する視野絞り17cと、を備え、光源17a、光源レンズ17b、視野絞り17c、コンデンサ絞り17d、コンデンサレンズ17eおよび反応容器36をケーラー照明系となるよう配置する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)