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1. (WO2010084583) MATÉRIAU D'ÉLECTROLYTE SOLIDE AU SULFURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/084583    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/050848
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 21.01.2009
CIB :
H01M 10/36 (2010.01), H01M 4/62 (2006.01), H01M 6/18 (2006.01)
Déposants : TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Toyota-cho, Toyota-shi, Aichi 4718571 (JP) (Tous Sauf US).
HAMA, Shigenori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UENO, Yukiyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUCHIDA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAGASE, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAMIYA, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAMA, Shigenori; (JP).
UENO, Yukiyoshi; (JP).
TSUCHIDA, Yasushi; (JP).
NAGASE, Hiroshi; (JP).
KAMIYA, Masato; (JP)
Mandataire : YAMASHITA, Akihiko; c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM, 3rd Floor, Oak Building Kyobashi, 16-10, Kyobashi 1-chome, Chuou-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SULFIDE SOLID ELECTROLYTE MATERIAL
(FR) MATÉRIAU D'ÉLECTROLYTE SOLIDE AU SULFURE
(JA) 硫化物固体電解質材料
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a sulfide solid electrolyte material which generates less hydrogen sulfide. Specifically disclosed is a sulfide solid electrolyte material which is characterized by having an LiSbS2 structure.
(FR)L'invention concerne un matériau d'électrolyte solide au sulfure qui génère moins de sulfure d'hydrogène. Elle concerne spécifiquement un matériau d'électrolyte solide au sulfure qui est caractérisé en ce qu'il comporte une structure LiSbS2.
(JA) 本発明は、硫化水素発生量の少ない硫化物固体電解質材料を提供することを主目的とする。 本発明は、LiSbS構造を有することを特徴とする硫化物固体電解質材料を提供することにより、上記課題を解決する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)