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1. (WO2010084478) MICROSCOPIE HAUTE RÉSOLUTION ET DISPOSITIFS DE PHOTOLITHOGRAPHIE UTILISANT DES MIROIRS MICROSCOPIQUES DE FOCALISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/084478    N° de la demande internationale :    PCT/IB2010/050300
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 23.01.2010
CIB :
G02B 21/00 (2006.01)
Déposants : ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL) [CH/CH]; EPFL-SRI Station 10 CH-1015 Lausanne (CH) (Tous Sauf US).
RACHET, Bastien [FR/CH]; (CH) (US Seulement).
MERENDA, Fabrice [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
SALATHE, René [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : RACHET, Bastien; (CH).
MERENDA, Fabrice; (CH).
SALATHE, René; (CH)
Mandataire : ROLAND, André; c/o André Roland S.A. P.O. Box 1255 CH-1001 Lausanne (CH)
Données relatives à la priorité :
PCT/IB2009/050285 24.01.2009 IB
Titre (EN) HIGH-RESOLUTION MICROSCOPY AND PHOTOLITHOGRAPHY DEVICES USING FOCUSING MICROMIRRORS
(FR) MICROSCOPIE HAUTE RÉSOLUTION ET DISPOSITIFS DE PHOTOLITHOGRAPHIE UTILISANT DES MIROIRS MICROSCOPIQUES DE FOCALISATION
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to large-field high-resolution microscopy and photolithography setups operating with polychromatic light. It includes the use of a plurality of focusing micromirrors.
(FR)L'invention concerne la microscopie haute résolution à champ large et des installations de photolithographie fonctionnant avec une lumière poly-chromatique. L'invention comprend l'utilisation d'une pluralité de miroirs microscopiques de focalisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)