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1. (WO2010084020) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/084020    N° de la demande internationale :    PCT/EP2010/000398
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 22.01.2010
CIB :
H01J 35/06 (2006.01), H01J 37/06 (2006.01), H01J 37/075 (2006.01), H01J 37/24 (2006.01), H05G 1/00 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c 80686 München (DE) (Tous Sauf US).
WÜPPEN, Jochen [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
RUSSBÜLDT, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOFFMANN, Dieter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MANS, Torsten [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STROTKAMP, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WESTER, Rolf [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : WÜPPEN, Jochen; (DE).
RUSSBÜLDT, Peter; (DE).
HOFFMANN, Dieter; (DE).
MANS, Torsten; (DE).
STROTKAMP, Michael; (DE).
WESTER, Rolf; (DE)
Mandataire : GAGEL, Roland; Landsbergerstrasse 480a 81241 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2009 005 620.3 22.01.2009 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR ERZEUGUNG EINES ELEKTRONENSTRAHLS
(EN) METHOD AND ASSEMBLY FOR GENERATING AN ELECTRON BEAM
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung eines Elektronenstrahls mit einer Anordnung, die mindestens eine Kathode (1), ein elektrisch leitfähiges Gitter (2) und eine Anode (3) umfasst, sowie eine zugehörige Anordnung. In einem an die Kathode (1) und das Gitter (2) angrenzenden Bereich wird ein Plasma (6) erzeugt, aus dem über das Gitter (2) Elektronen (7) ausgekoppelt und in Richtung der Anode (3) beschleunigt werden. Das Plasma (6) wird beim vorgeschlagenen Verfahren durch Fokussieren von Laserpulsen auf eine Oberfläche der Kathode (1) erzeugt. Das Verfahren und die Anordnung lassen sich dadurch problemlos auch im Hochvakuum oder Ultrahochvakuum einsetzen und ermöglichen die Erzeugung sowohl von sub-μs-Pulsen als auch einen DC-Betrieb.
(EN)The present invention relates to a method for generating an electron beam, having an assembly comprising at least one cathode (1), an electrically conductive grating (2) and an anode (3) and further a related assembly. A plasma (6), from which electrons (7) are decoupled by way of the grating (2) and accelerated in the direction of the anode (3), is generated in a region bordering the cathode (1) and the grating (2). The plasma (6) is generated in the proposed method by focusing laser pulses on a surface of the cathode (1). The method and the assembly can be used without difficulty in a high vacuum or ultra-high vacuum and enable the generation of both sub-μs pulses and a DC mode.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un faisceau d'électrons à l'aide d'un système comprenant au moins une cathode (1), une grille électriquement conductrice (2) et une anode (3), ainsi qu'un système correspondant. Dans une zone adjacente à la cathode (1) et à la grille (2) est produit un plasma (6) à partir duquel, grâce à la grille (2), des électrons (7) sont extraits et propulsés en direction de l'anode (3). Selon ledit procédé, le plasma (6) est produit par la focalisation d'impulsions laser à la surface de la cathode (1). Le procédé et le système selon l'invention peuvent ainsi être utilisés sans difficulté dans le vide poussé ou dans l'ultravide, ce qui permet aussi bien la production d'impulsions inférieures à la µs que le fonctionnement en courant continu.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)