WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010083655) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE POUR MASQUE PHOTOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/083655    N° de la demande internationale :    PCT/CN2009/070303
Date de publication : 29.07.2010 Date de dépôt international : 23.01.2009
CIB :
G03F 1/00 (2012.01)
Déposants : CHANGZHOU RUIZE MICROELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Room 3-318 No.25 Changjiang Middle Road, Xinbei District Changzhou, Jiangsu 213022 (CN) (Tous Sauf US).
XU, Fei [CN/CN]; (CN) (US Seulement).
JIN, Haitao [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : XU, Fei; (CN).
JIN, Haitao; (CN)
Mandataire : SANHE INTERNATIONAL IP ATTORNEYS; Suite D-578 4299 Jindu Road, Minhang District Shanghai 201108 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CLEANING METHOD FOR PHOTOMASK
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE POUR MASQUE PHOTOGRAPHIQUE
(ZH) 一种光掩模的清洗方法
Abrégé : front page image
(EN)A wet cleaning process for photomask is provided,which comprises:rinsing the photomask with deionized water at 50-90℃ and irradiating the surface of the photomask with infrared light,to break the hydrogen bond between the sulfate ion and the photomask,so as to remove dissociating sulfate ions from the surface of the photomask.
(FR)L'invention porte sur un procédé de nettoyage d'un masque photographique, par voie humide, qui comporte : le rinçage du masque photographique avec une eau déminéralisée de 50 à 90°C et l'irradiation de la surface du masque photographique avec de la lumière infrarouge pour rompre la liaison hydrogène entre l'ion sulfate et le masque photographique, de façon à éliminer de la surface du masque photographique les ions sulfate se dissociant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)