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1. (WO2010082977) DISPOSITIF D'ESSAI DE FLEXION ÉQUIBIAXIALE POUR TRANCHES DE SEMI-CONDUCTEURS MINCES ET ULTRA- MINCES ET AUTRES TRANCHES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/082977    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/066074
Date de publication : 22.07.2010 Date de dépôt international : 30.11.2009
CIB :
G01B 7/16 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF UTAH RESEARCH FOUNDATION [US/US]; 615 Arapeen Drive, Suite 310 Salt Lake City, UT 84108 (US) (Tous Sauf US).
GURUSWAMY, Sivaraman [US/US]; (US) (US Seulement).
PEARCE, Cody, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GURUSWAMY, Sivaraman; (US).
PEARCE, Cody, A.; (US)
Mandataire : EVANS, Edward, J.; Michael Best & Friedrich LLP 100 East Wisconsin Avenue, Suite 3300 Milwaukee, WI 53202 (US)
Données relatives à la priorité :
61/145,160 16.01.2009 US
Titre (EN) EQUI-BIAXIAL FLEXURE TEST DEVICE FOR THIN AND ULTRA-THIN SEMICONDUCTOR WAFERS AND OTHER WAFERS
(FR) DISPOSITIF D'ESSAI DE FLEXION ÉQUIBIAXIALE POUR TRANCHES DE SEMI-CONDUCTEURS MINCES ET ULTRA- MINCES ET AUTRES TRANCHES
Abrégé : front page image
(EN)A test device for applying a biaxial load on a test specimen includes a housing having an internal chamber and a support positioned in the internal chamber upon which the test specimen is positioned. The test specimen is engageable with the support to divide the internal chamber into a first chamber portion and a second chamber portion. The test device also includes an inlet through which a pressurized fluid is transferred to the first chamber portion to apply the biaxial load upon the test specimen, a pressure sensor operable to detect the pressure of the pressurized fluid in the first chamber portion, and a displacement sensor operable to detect movement of the test specimen in response to the biaxial load applied by the pressurized fluid. The test device enables determination of biaxial flexural strength and load deflection information for thin/ultra thin wafers of semiconductors and other brittle materials.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'essai permettant d'appliquer une charge biaxiale sur un échantillon d'essai comprenant un logement doté d'une chambre interne et d'un support positionné dans la chambre interne sur lequel l'échantillon d'essai est positionné. L'échantillon d'essai est destiné à coopérer avec le support afin de diviser la chambre interne en une première et une seconde partie de chambre. Le dispositif d'essai comprend également un orifice d'admission par lequel un fluide pressurisé est transféré à la première partie de chambre afin d'appliquer la charge biaxiale sur l'échantillon d'essai, un capteur de pression servant à détecter la pression du fluide pressurisé dans la première partie de chambre, et un capteur de déplacement permettant de détecter un mouvement de l'échantillon d'essai en réponse à la charge biaxiale appliquée par le fluide pressurisé. Le dispositif d'essai permet de déterminer une résistance à la flexion biaxiale et des informations de déflexion de charge pour les tranches minces/ultra-minces de semi-conducteurs et autres matériaux cassants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)