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1. (WO2010082151) PROCÉDÉ DE DÉPÔT D'AU MOINS UN FILM ÉLECTRIQUEMENT CONDUCTEUR SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/082151    N° de la demande internationale :    PCT/IB2010/050083
Date de publication : 22.07.2010 Date de dépôt international : 11.01.2010
CIB :
H01L 51/00 (2006.01), C23C 14/28 (2006.01)
Déposants : PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH [DE/DE]; Lübeckertordamm 5 20099 Hamburg (DE) (DE only).
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N. V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1 NL-5621 BA Eindhoven (NL) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Hansastr. 27 c 80686 München (DE) (Tous Sauf US).
BERTRAM, Dietrich [DE/DE]; (NL) (US Seulement).
KRIJNE, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
SCHWAB, Holger [DE/DE]; (NL) (US Seulement).
YOUNG, Edward, W., A. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN BUUL, Jeroen, H., A., M. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
GASSER, Andres [CH/DE]; (NL) (US Seulement).
WISSENBACH, Konrad [DE/DE]; (NL) (US Seulement).
VEDDER, Christian [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
PIRCH, Norbert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STOLLENWERK, Jochen, H. [DE/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BERTRAM, Dietrich; (NL).
KRIJNE, Johannes; (NL).
SCHWAB, Holger; (NL).
YOUNG, Edward, W., A.; (NL).
VAN BUUL, Jeroen, H., A., M.; (NL).
GASSER, Andres; (NL).
WISSENBACH, Konrad; (NL).
VEDDER, Christian; (DE).
PIRCH, Norbert; (DE).
STOLLENWERK, Jochen, H.; (NL)
Mandataire : BEKKERS, Joost; High Tech Campus 44 NL-5656 AE Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
09150520.6 14.01.2009 EP
Titre (EN) A METHOD FOR DEPOSITION OF AT LEAST ONE ELECTRICALLY CONDUCTING FILM ON A SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉPÔT D'AU MOINS UN FILM ÉLECTRIQUEMENT CONDUCTEUR SUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method for deposition of at least one electrically conducting film (20) on a substrate (30), comprising the steps: selecting a layer (10) of a film material, wherein the layer (10) comprises a mask (40) on a front side (11) and wherein the layer (10) and the mask (40) are one piece, - positioning the front side (11) of the layer (10) upon the substrate (30), applying at least one laser pulse (120) onto a back side (12) of the layer (10), so as to melt and to vaporize at least parts of the layer (10) such that melt droplets (110) are propelled toward and deposited upon said substrate (30), forming the film (20), wherein at least one slot (45) of the mask (40) limits the distribution of said melt droplets (110).
(FR)L'invention porte sur un procédé de dépôt d'au moins un film électriquement conducteur (20) sur un substrat (30), comprenant les étapes consistant à : sélectionner une couche (10) d'un matériau de film, la couche (10) comprenant un masque (40) sur un côté avant (11) et la couche (10) et le masque (40) étant d'un seul tenant, positionner le côté avant (11) de la couche (10) sur le substrat (30), appliquer au moins une impulsion laser (120) sur un côté arrière (12) de la couche (10), de façon à fondre et à vaporiser au moins des parties de la couche (10) de telle manière que des gouttelettes fondues (110) sont propulsées vers et déposées sur ledit substrat (30), formant le film (20), au moins une fente (45) du masque (40) limitant la distribution desdites gouttelettes fondues (110).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)