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1. (WO2010080358) PROCESSUS DE RETRAIT D'UNE PELLICULE DE BORDURE POUR APPLICATIONS DE CELLULES SOLAIRES À COUCHE MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/080358    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/067878
Date de publication : 15.07.2010 Date de dépôt international : 14.12.2009
CIB :
H01L 31/042 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
SU, Tzay-Fa [US/US]; (US) (US Seulement).
MORISHIGE, David [US/US]; (US) (US Seulement).
MARTIN, Todd [US/US]; (US) (US Seulement).
MAHAJAN, Uday [IN/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SU, Tzay-Fa; (US).
MORISHIGE, David; (US).
MARTIN, Todd; (US).
MAHAJAN, Uday; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P. 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500 Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
61/139,409 19.12.2008 US
Titre (EN) EDGE FILM REMOVAL PROCESS FOR THIN FILM SOLAR CELL APPLICATIONS
(FR) PROCESSUS DE RETRAIT D'UNE PELLICULE DE BORDURE POUR APPLICATIONS DE CELLULES SOLAIRES À COUCHE MINCE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method and apparatus for edge film stack removal process for fabricating photovoltaic devices. In one embodiment, a method for manufacturing solar cell devices on a substrate includes providing a substrate into a chemical vapor deposition chamber, contacting a shadow frame disposed in the deposition chamber to a periphery region of the substrate, depositing a silicon-containing layer on the substrate through an aperture defined by the shadow frame, transferring the substrate to a physical vapor deposition chamber, depositing a transparent conductive layer on the silicon-containing layer, transferring the substrate to a laser edge removal tool, and laser scribing the layers formed on the periphery region of the substrate.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un appareil pour le processus de retrait d'empilements de pellicules de bordure pour la fabrication de dispositifs photovoltaïques. Dans un mode de réalisation, un procédé de fabrication de dispositifs de cellules solaires consiste à introduire un substrat dans une chambre de dépôt chimique en phase vapeur, à mettre en contact une armature d'ombrage disposée dans la chambre de dépôt avec une zone périphérique du substrat, à déposer une couche contenant du silicium sur le substrat à travers une ouverture définie dans l'armature d'ombrage, à transférer le substrat dans une chambre de dépôt physique en phase vapeur, à déposer une couche conductrice transparente sur la couche contenant du silicium, à transférer le substrat vers un outil de retrait de bordures à laser, et à inscrire au laser sur les couches formées sur la zone périphérique du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)