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1. (WO2010080069) TECHNIQUES DE MAINTENANCE D'UN SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/080069    N° de la demande internationale :    PCT/SG2009/000302
Date de publication : 15.07.2010 Date de dépôt international : 28.08.2009
CIB :
H01L 21/223 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : FRONTKEN (SINGAPORE) PTE LTD [SG/SG]; 15 Gul Drive Singapore 629466 (SG) (Tous Sauf US).
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, MA 01930 (US) (Tous Sauf US).
TAY, Kiang Meng [SG/SG]; (SG).
MAH, Eugene, Wei Khai [MY/SG]; (SG).
LIEW, Huay Meei [MY/SG]; (SG).
TAY, Teck, Kwang [SG/SG]; (SG).
LEE, Chua Bong [SG/SG]; (SG).
CHONG, Shi Chai [MY/MY]; (MY).
WHITE, James, Edward [US/US]; (US).
CARUSO, Rudolph, John [US/US]; (US).
SIMON, Daniel, Allen [US/US]; (US).
RAHME, Elie, Eid [US/US]; (US)
Inventeurs : TAY, Kiang Meng; (SG).
MAH, Eugene, Wei Khai; (SG).
LIEW, Huay Meei; (SG).
TAY, Teck, Kwang; (SG).
LEE, Chua Bong; (SG).
CHONG, Shi Chai; (MY).
WHITE, James, Edward; (US).
CARUSO, Rudolph, John; (US).
SIMON, Daniel, Allen; (US).
RAHME, Elie, Eid; (US)
Données relatives à la priorité :
200900035-7 06.01.2009 SG
Titre (EN) SHIELDING AND PROTECTING ELEMENTS FOR PLASMA DOPING AND THEIR MAINTAINANCE
(FR) TECHNIQUES DE MAINTENANCE D'UN SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)Techniques and systems for maintaining a plasma processing kit consisting of protection and shielding elements without causing damage are introduced. The elements may be made of aluminium, polysilicon and quartz and may be coated with silicon. The surfaces of the elemants show a specified roughness. Precision cleaning and recovery of the contamined kit components of a plasma doping (PLAD) system is used, to extend the life and reusability of the components. The methods described cover the stages of inspection, pre-cleaning, mechanical processing and texturing, post-cleaning, clean-room class cleaning and packaging of the components consisting of quartz, aluminium and/or silicon. Techniques described employ the combination of a variety of means (primarily chemical and mechanical) to achieve the desired levels of cleanliness. The result obtained by methods that include Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometry (ICP-MS) and Laser Particle Count affirm the efficacy of these techniques.
(FR)L'invention concerne des techniques et systèmes de maintenance d'un kit de traitement au plasma et ses composants (comme le montre la figure 2) ne provoquant aucun dégât. Spécifiquement, il s'agit de techniques de nettoyage et de récupération de précision des composants de kit contaminés d'un système de dopage au plasma (PLAD) pour rallonger la vie et permettre le recyclage de ces composants. Les procédés décrits recouvrent les phases d'inspection, de pré-nettoyage, de traitement et de texturation mécaniques, de post-nettoyage, de nettoyage et de conditionnement de niveau salle propre des composants consistant en quartz, aluminium et/ou silicium. Les techniques décrites combinent toute une variété de moyens (avant tout chimiques et mécaniques) pour atteindre le niveau de propreté désiré. Le résultat obtenu par des procédés comme la spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif (ICP-MS) et le comptage de particules laser atteste de l'efficacité de ces techniques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)