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1. (WO2010079154) PROCEDE DE REALISATION D'UN DEPOT DE NANOPARTICULES A ADHERENCE AUGMENTEE ET DISPOSITIF POUR LA MISE EN ŒUVRE D'UN TEL PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/079154    N° de la demande internationale :    PCT/EP2010/050022
Date de publication : 15.07.2010 Date de dépôt international : 05.01.2010
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.10.2010    
CIB :
C23C 18/12 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25 rue Leblanc, Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris (FR) (Tous Sauf US).
PHAN, Hai Trieu [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
GRUSS, Jean-Antoine [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
PONCELET, Olivier [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : PHAN, Hai Trieu; (FR).
GRUSS, Jean-Antoine; (FR).
PONCELET, Olivier; (FR)
Mandataire : ILGART, Jean-Christophe; Brevalex 95, rue d'Amsterdam F-75378 Paris Cedex 8 (FR)
Données relatives à la priorité :
09 50036 06.01.2009 FR
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING A NANOPARTICLE DEPOSIT WITH INCREASED ADHESION AND DEVICE FOR IMPLEMENTING SAID METHOD
(FR) PROCEDE DE REALISATION D'UN DEPOT DE NANOPARTICULES A ADHERENCE AUGMENTEE ET DISPOSITIF POUR LA MISE EN ŒUVRE D'UN TEL PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a device for producing a deposit of nanoscale particles having on at least a portion of the surface (4) of a substrate (2), comprising a first chamber (14) for containing a liquid (8) laden with nanoscale particles, the first chamber (14) being under a pressure greater than the atmospheric pressure and comprising heating means (16) for heating said fluid to the boiling temperature thereof, a second chamber (20) at a pressure substantially equal to that of the first chamber (14) and in which the deposit is carried out by boiling, heating means (24) being provided for heating said at least one portion of the surface (4) of the substrate (2), and the first chamber (14) being connected to the second chamber (20) so as to supply the second chamber (20) with the fluid substantially heated to the boiling temperature thereof.
(FR)Dispositif destiné à réaliser le dépôt de particules de taille nanométrique sur au moins une partie de la surface (4) d'un substrat (2), comportant une première enceinte (14) destinée à contenir un liquide (8) chargé en particules de taille nanométrique, la première enceinte (14) étant sous une pression supérieure à la pression atmosphérique et comportant des moyens de chauffage (16) dudit fluide aptes à porter le fluide à sa température d' ébullition, une deuxième enceinte (20) pressurisée à une pression sensiblement égale à celle de la première enceinte (14), à l'intérieur de laquelle a lieu le dépôt par ébullition, des moyens de chauffage (24) étant prévus pour chauffer la au moins une partie de la surface (4) du substrat (2), la première enceinte (14) étant connectée à la deuxième enceinte (20) pour permettre l'alimentation de la deuxième enceinte (20) avec le fluide porté sensiblement à sa température d' ébullition.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)