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1. (WO2010077744) ENSEMBLE BLOC DE NETTOYAGE POUR SONDEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/077744    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/067341
Date de publication : 08.07.2010 Date de dépôt international : 09.12.2009
CIB :
G01R 3/00 (2006.01), G01R 31/28 (2006.01)
Déposants : MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED [US/US]; 2355 West Chandler Blvd. Chandler, AZ 85224-6199 (US) (Tous Sauf US).
RICHMOND, Robert, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RICHMOND, Robert, A.; (US)
Mandataire : SLAYDEN, Bruce, W.; King & Spalding LLP 401 Congress Ave., Suite 3200 Austin, TX 78701 (US)
Données relatives à la priorité :
61/121,012 09.12.2008 US
12/560,817 16.09.2009 US
Titre (EN) PROBER CLEANING BLOCK ASSEMBLY
(FR) ENSEMBLE BLOC DE NETTOYAGE POUR SONDEURS
Abrégé : front page image
(EN)A system is provided for cleaning of probe contacts. The system includes a base plate comprising three mounting means for receiving each an adjustable attachment means, and means for connecting the base plate to a probe machine; and a cleaning plate comprising three holding means for receiving the respective adjustable attachment means, and a top area for cleaning probe contacts. The top area is between 60-100 mm times 75-100 mm, and the adjustable attachment means allows the cleaning plate to be leveled. A method for mounting in a probe machine such a system for cleaning of probe contacts is provided. The method includes connecting the base plate in the probe machine; connecting the cleaning plate to the base plate with the adjustable attachment means by mounting one of the adjustable attachment means as a reference, and mounting the two other adjustable attachment means for adjusting the level of the cleaning plate; and leveling the cleaning plate with the aid of measuring means for measuring distance held by the probe machine. The leveling includes repeating the following steps until the desired level is reached: moving the measuring means to a place on the cleaning plate top area that is substantially above the adjustable attachment means used as a reference and measure a reference value with the measuring means; moving the measuring means to a place on the cleaning plate top area that is substantially above one of the two adjustable attachment means for adjusting the level and adjust that attachment means until the measuring means reads substantially the same as the reference value; and moving the measuring means to a place on the cleaning plate top area that is substantially above the other of the two adjustable attachment means for adjusting the level and adjust that attachment means until the measuring means reads substantially the same as the reference value.
(FR)L'invention concerne un système destiné au nettoyage de contacts de sondes. Le système comprend une semelle comportant trois moyens de montage destinés à recevoir chacun un moyen de fixation réglable, et des moyens servant à relier la semelle à une machine à sonder ; ainsi qu'une plaque de nettoyage comportant trois moyens de support destinés à recevoir les moyens de fixation réglables respectifs et une zone supérieure servant à nettoyer des contacts de sondes. Les dimensions de la zone supérieure sont de 60 à 100 mm sur 75 à 100 mm et le moyen de fixation réglable permet à la plaque de nettoyage d'être réglée à niveau. L'invention concerne également un procédé de montage d'un tel système dans une machine à sonder afin de nettoyer des contacts de sondes. Le procédé comporte les étapes consistant à : fixer la semelle dans la machine à sonder ; relier la plaque de nettoyage à la semelle à l'aide des moyens de fixation réglables en montant un des moyens de fixation réglables en tant que référence et en montant les deux autres moyens de fixation réglables de façon à régler le niveau de la plaque de nettoyage ; et à régler à niveau la plaque de nettoyage à l'aide d'un moyen de mesure servant à mesurer la distance et supportés par la machine à sonder. Le réglage de niveau consiste à répéter les étapes suivantes jusqu'à ce que le niveau souhaité soit atteint : amener le moyen de mesure à un emplacement sur la zone supérieure de la plaque de nettoyage situé sensiblement au-dessus du moyen de fixation réglable utilisé comme référence et mesurer une valeur de référence à l'aide du moyen de mesure ; amener le moyen de mesure à un emplacement sur la zone supérieure de la plaque de nettoyage situé sensiblement au-dessus de l'un des deux moyens de fixation réglables servant à régler le niveau et régler le moyen de fixation en question jusqu'à ce que le moyen de mesure indique sensiblement la même valeur que celle de la référence ; et amener le moyen de mesure à un emplacement sur la zone supérieure de la plaque de nettoyage situé sensiblement au-dessus de l'autre moyen parmi les deux moyens de fixation réglables servant à régler le niveau et régler le moyen de fixation en question jusqu'à ce que le moyen de mesure indique sensiblement la même valeur que celle de la référence.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)