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1. (WO2010077544) PROCÉDÉ DE SCELLEMENT ÉTANCHE DE BORDS DE FILMS BARRIÈRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/077544    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/066518
Date de publication : 08.07.2010 Date de dépôt international : 03.12.2009
CIB :
B32B 27/00 (2006.01)
Déposants : SAMSUNG MOBILE DISPLAY CO., LTD. [KR/KR]; San #24 Nongseo-Dong Giheung-Gu Yongin City, Gyunggi-do Republic of Korea 446-711 (KR) (Tous Sauf US).
CHU, Xi [US/US]; (US) (US Seulement).
BURROWS, Paul, E. [GB/US]; (US) (US Seulement).
MAST, Eric, S. [US/US]; (US) (US Seulement).
MARTIN, Peter, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
GRAFF, Gordon, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
GROSS, Mark, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
BONHAM, Charles, C. [US/US]; (US) (US Seulement).
BENNETT, Wendy, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
ROSENBLUM, Martin, Philip [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHU, Xi; (US).
BURROWS, Paul, E.; (US).
MAST, Eric, S.; (US).
MARTIN, Peter, M.; (US).
GRAFF, Gordon, L.; (US).
GROSS, Mark, E.; (US).
BONHAM, Charles, C.; (US).
BENNETT, Wendy, D.; (US).
ROSENBLUM, Martin, Philip; (US).
HALL, Michael, G. (deceased); (US)
Mandataire : PRIOR, Patricia, L.; Dinsmore & Shohl LLP One Dayton Centre, Suite 1300 One South Main Street Dayton, OH 45402-2023 (US)
Données relatives à la priorité :
12/345,787 30.12.2008 US
Titre (EN) METHOD FOR EDGE SEALING BARRIER FILMS
(FR) PROCÉDÉ DE SCELLEMENT ÉTANCHE DE BORDS DE FILMS BARRIÈRES
Abrégé : front page image
(EN)Methods of making an edge-sealed, encapsulated environmentally sensitive device. One method includes providing an environmentally sensitive device with a contact on a substrate; depositing a decoupling layer adjacent to the environmentally sensitive device, the decoupling layer having a discrete area and covering the environmentally sensitive device and not covering the contact, the decoupling layer deposited using a printing process; depositing a first barrier layer adjacent to the decoupling layer, the first barrier layer having a first area greater than the discrete area of the decoupling layer, and the first barrier layer having a second area covering the decoupling layer and the contact, the decoupling layer being sealed between the edges of the first barrier layer and the substrate or an optional second barrier layer; and removing the second area of the first barrier layer from the contact.
(FR)L'invention porte sur des procédés de fabrication d'un dispositif à bords scellés, encapsulé et sensible au milieu. Un procédé comprend l'utilisation d'un dispositif sensible au milieu avec un contact sur un substrat ; le dépôt d'une couche de découplage à proximité du dispositif sensible au milieu, la couche de découplage présentant une zone discrète et couvrant le dispositif sensible au milieu, sans couvrir le contact, la couche de découplage étant déposée à l'aide d'un procédé d'impression ; le dépôt d'une première couche barrière à proximité de la couche de découplage, la première couche barrière ayant une première zone plus grande que la zone discrète de la couche de découplage, et la première couche barrière ayant une seconde zone couvrant la couche de découplage et le contact, la couche de découplage étant étanchement scellée entre les bords de la première couche barrière et du substrat ou d'une seconde couche barrière facultative, et l'élimination de la seconde zone de la première couche barrière du contact.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)