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1. (WO2010074743) COMPENSATION FOCALE POUR CAMÉRAS MINCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/074743    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/006660
Date de publication : 01.07.2010 Date de dépôt international : 22.12.2009
CIB :
G02B 13/00 (2006.01), H01L 31/0232 (2006.01)
Déposants : TESSERA NORTH AMERICA, INC. [US/US]; 9815 David Taylor Drive Charlotte, NC 28262 (US) (Tous Sauf US).
ELLIOTT, Paul [US/US]; (US) (US Seulement).
CARRIERE, James [CA/US]; (US) (US Seulement).
CLASSEY, Jeffrey [US/US]; (US) (US Seulement).
WELCH, Kevin [US/US]; (US) (US Seulement).
WELCH, W., Hudson [US/US]; (US) (US Seulement).
MATHEWS, Jay [US/US]; (US) (US Seulement).
REINA, Stephen [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ELLIOTT, Paul; (US).
CARRIERE, James; (US).
CLASSEY, Jeffrey; (US).
WELCH, Kevin; (US).
WELCH, W., Hudson; (US).
MATHEWS, Jay; (US).
REINA, Stephen; (US)
Mandataire : MORSE, Susan S.; Lee & Morse, P.C. 3141 Fairview Park Drive Suite 500 Falls Church, VA 22042 (US)
Données relatives à la priorité :
61/139,810 22.12.2008 US
Titre (EN) FOCUS COMPENSATION FOR THIN CAMERAS
(FR) COMPENSATION FOCALE POUR CAMÉRAS MINCES
Abrégé : front page image
(EN)A method of forming an image module includes creating a lens stack wafer including a plurality of lens stacks, determining an individual lens stack compensation for each of the lens stacks, providing an image sensor wafer package including a plurality of image sensors and a transparent wafer overlying the image sensors, forming a plurality of individual adjustment members between the transparent wafer and the lens stack wafer, a size of each individual adjustment member corresponding to individual lens stack compensations, and forming an image module wafer by securing the plurality of lens stacks, the plurality of image sensors, and the plurality of adjustment members to form a plurality of image modules, adjustment members being outside an optical path of the image module, at least one of the plurality of lens stacks and the plurality of image sensors remaining in wafer form during the forming of the image module wafer.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation d'un module d'images. Le procédé consiste à créer une tranche d'empilements de lentilles comprenant une pluralité d'empilements de lentilles, à déterminer une compensation d'empilement de lentilles individuelle pour chaque empilement de lentilles, à utiliser un boîtier de tranche de capteurs d'images comprenant une pluralité de capteurs d'images et une tranche transparente recouvrant les capteurs d'images, à former une pluralité d'éléments d'ajustement individuels entre la tranche transparente et la tranche d'empilements de lentilles, une taille de chaque élément d'ajustement individuel correspondant à des compensations d'empilements de lentilles individuelles, et à former une tranche de module d'images par la fixation de la pluralité d'empilements de lentilles, de la pluralité de capteurs d'images et de la pluralité d'éléments d'ajustement pour former une pluralité de modules d'images, la pluralité d'empilements de lentilles et/ou la pluralité de capteurs d'images restant sous forme de tranche pendant la formation de la tranche de module d'images.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)