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1. (WO2010074190) OBJET MICROFABRIQUÉ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/074190    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/071520
Date de publication : 01.07.2010 Date de dépôt international : 17.12.2009
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), G02B 1/02 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01), B29L 11/00 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP) (Tous Sauf US).
ENDOH, Sohmei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HAYASHIBE, Kazuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Koichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ENDOH, Sohmei; (JP).
HAYASHIBE, Kazuya; (JP).
SHIMIZU, Koichiro; (JP)
Mandataire : SUGIURA, Masatomo; 2nd Floor, Metrocity Minami Ikebukuro, 29-12, Minami Ikebukuro 2-chome, Toshima-ku, Tokyo 1710022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-335102 26.12.2008 JP
Titre (EN) MICROFABRICATED OBJECT, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND ETCHING DEVICE
(FR) OBJET MICROFABRIQUÉ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF DE GRAVURE
(JA) 微細加工体、およびその製造方法、ならびにエッチング装置
Abrégé : front page image
(EN)A method for fabricating a microfabricated object is provided with a step for depositing an inorganic resist layer on an original disk having a curved surface, a step for forming a pattern on the inorganic resist layer deposited on the original disk by exposing and developing the inorganic resist layer, a step for fabricating the microfabricated object by disposing the original disk, above which the pattern is formed on the organic resist layer, on an electrode having a curved surface that is approximately the same as or similar to the curved surface of the original disk, etching the original disk, and forming a concavo-convex shape on the surface of the original disk.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un objet microfabriqué comprenant des étapes consistant à déposer une couche de résine inorganique sur un disque original présentant une surface courbe, former un motif sur la couche de résine inorganique déposée sur le disque original en exposant et en développant la couche de résine inorganique, concevoir l'objet microfabriqué en disposant le disque original, sur lequel le motif est formé sur la couche de résine organique, sur une électrode présentant une surface courbe qui est approximativement identique ou similaire à la surface courbe du disque original, graver le disque original et créer une forme concavo-convexe sur la surface du disque original.
(JA)微細加工体の製造方法は、曲面を有する原盤上に無機レジスト層を成膜する工程と、原盤上に成膜された無機レジスト層を露光現像し、無機レジスト層にパターンを形成する工程と、無機レジスト層にパターンが形成された原盤を、原盤の曲面とほぼ同一または相似の曲面を有する電極上に配置し、原盤をエッチングし、原盤表面に凹凸形状を形成することにより、微細加工体を作製する工程とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)