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1. (WO2010073969) COMPOSITION À BASE DE POLYSILOXANE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CETTE DERNIÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/073969    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/071076
Date de publication : 01.07.2010 Date de dépôt international : 11.12.2009
CIB :
C08L 83/04 (2006.01), C08L 83/06 (2006.01), C08K 3/08 (2006.01), C08K 3/22 (2006.01), C08K 9/06 (2006.01)
Déposants : Dow Corning Toray Co., Ltd. [JP/JP]; 1-3, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP) (Tous Sauf US).
The University of Tokyo [JP/JP]; 3-1, Hongo 7-chome, Bunkyo-ku Tokyo 1138654 (JP) (Tous Sauf US).
OGAWA, Takuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OSHIMA, Yoshito [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OGAWA, Takuya; (JP).
OSHIMA, Yoshito; (JP)
Mandataire : TAKAHASHI, Norio; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku Tokyo 1006620 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-327407 24.12.2008 JP
Titre (EN) POLYSILOXANE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COMPOSITION À BASE DE POLYSILOXANE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CETTE DERNIÈRE
Abrégé : front page image
(EN)A polysiloxane composition containing fine particles of a metal or metal oxide on the surface of which an organosilicon group is present and a method for producing the same are provided. The polysiloxane composition contains a polysiloxane represented by average structural formula (A) and fine particles of a metal or metal oxide on the surface of which an organosilicon group represented by general formula (B) is fixed by means of chemical binding. The method for producing the aforementioned polysiloxane composition includes reacting the fine particles of a metal or metal oxide with the organosilicon compound having a monovalent organic group having an organic functional group, and a silicon atom-binding hydrolyzable group or a silanol group in the presence of water under conditions at a temperature of not less than 2000C, to simultaneously form a polysiloxane and fine particles of the metal or metal oxide on the surface of which the organosilicon group is fixed by means of chemical binding.
(FR)L'invention concerne une composition à base de polysiloxane contenant des particules fines d'un métal ou d'oxyde métallique sur la surface de laquelle un groupe organosilicium est présente et un procédé de production de ladite composition. La composition à base de polysiloxane contient un polysiloxane représenté par une formule structurale moyenne (A) et des particules fines d'un métal ou d'un oxyde métallique sur la surface de laquelle un groupe organosilicium représenté par la formule générale (B) est fixé par liaison chimique. Le procédé de production de la composition à base de polysiloxane susmentionnée consiste à faire réagir les particules fines d'un métal ou d'un oxyde métallique avec le composé d'organosilicium présentant un groupe organique monovalent ayant un groupe fonctionnel organique, et un groupe hydrolysable de liaison à l'atome de silicium ou un groupe sylanol en présence d'eau dans des conditions de température supérieure à 2000°C, afin de former simultanément un polysiloxane et des particules fines du métal ou de l'oxyde métallique sur la surface de laquelle le groupe organosilicium est fixé par liaison chimique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)