WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010073964) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE CIBLE RÉGÉNÉRÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/073964    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/071055
Date de publication : 01.07.2010 Date de dépôt international : 17.12.2009
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), C04B 35/645 (2006.01)
Déposants : TANAKA HOLDINGS Co., Ltd. [JP/JP]; TOKYO BUILDING, 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006422 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAMOTO, Toshiya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYASHITA, Takanobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITOH, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAMOTO, Toshiya; (JP).
MIYASHITA, Takanobu; (JP).
ITOH, Osamu; (JP)
Mandataire : MATSUYAMA, Keisuke; Minami-Shinjuku Bldg., 10-12, Yoyogi 2-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1510053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-332330 26.12.2008 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING REGENERATED TARGET
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE CIBLE RÉGÉNÉRÉE
(JA) 再生ターゲットの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A regenerated target reduced in void content is produced by sintering with uniaxial pressing. A process comprises: a powder filling step in which a spent target (1) is placed in the inner space (12A) of a frame jig (12) having an inner space (12A) piercing in a uniaxial direction, and a raw-material powder for targets (2) is filled into the inner space (12A) to cover the erosion part (1A) side of the spent target (1) with the raw-material powder for targets (2); a cushioning-material disposition step in which a deformable cushioning material (3) is disposed so that the raw-material powder for targets (2) which has been filled into the inner space (12A) in the powder filling step is sandwiched between the spent target (1) and the cushioning material (3); and a sintering step in which the raw-material powder for targets (2) which has been filled into the inner space (12A) and the spent target (1) are pressed in the uniaxial direction through the cushioning material (3) disposed in the cushioning-material disposition step and are sintered.
(FR)L'invention concerne une cible régénérée dont la teneur en vides est réduite et qui est fabriquée par frittage avec un pressage uniaxe. Un procédé comprend : une étape de remplissage de poudre dans laquelle une cible utilisée (1) est placée dans l'espace interne (12A) d'un support (12) comportant un espace interne (12A) pénétrant dans une direction uniaxe et une poudre de matière première pour des cibles (2) est injectée dans l'espace interne (12A) pour couvrir le côté de la partie érodée (1A) de la cible utilisée (1) avec la poudre de matière première pour des cibles (2) ; une étape de disposition d'un matériau d'amortissement dans laquelle un matériau d'amortissement déformable (3) est disposé de façon que la poudre de matière première pour cibles (2) qui a été injectée dans l'espace interne (12A) dans l'étape d'injection de poudre soit intercalée entre la cible utilisée (1) et le matériau d'amortissement (3) ; et une étape de frittage dans laquelle la poudre de matière première pour des cibles (2) qui a été injectée dans l'espace interne (12A) et la cible utilisée (1) sont pressées dans la direction uniaxe par le biais du matériau d'amortissement (3) disposé dans l'étape de disposition de matériau d'amortissement et sont frittées.
(JA) ボイドの少ない再生ターゲットを、一軸方向に加圧する焼結法により製造する。 一軸方向に貫通した内空部12Aを有する外周治具12の内空部12Aに使用済みターゲット1を配置するとともに、内空部12Aにターゲット用原料粉末2を充填して、使用済みターゲット1のエロージョン部1A側の面をターゲット用原料粉末2で覆わせる粉末充填工程と、前記粉末充填工程で内空部12Aに充填したターゲット用原料粉末2を使用済みターゲット1との間に挟み込むように、変形可能な緩衝材3を配置する緩衝材配置工程と、内空部12Aに充填したターゲット用原料粉末2と使用済みターゲット1とを、前記緩衝材配置工程で配置した緩衝材3を介して一軸方向に加圧して焼結させる焼結工程と、を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)