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1. (WO2010073855) COMPOSITION DE NETTOYANT, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, COMPOSÉ AMPHIPHILE ET COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/073855    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/069554
Date de publication : 01.07.2010 Date de dépôt international : 18.11.2009
CIB :
C11D 1/28 (2006.01), A61K 8/46 (2006.01), A61Q 5/02 (2006.01), A61Q 19/10 (2006.01), C07C 309/17 (2006.01), C11D 11/04 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : LION CORPORATION [JP/JP]; 3-7, Honjo 1-chome, Sumida-ku, Tokyo 1308644 (JP) (Tous Sauf US).
KONTA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NOMURA, Masako [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OBAYASHI, Yuko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KONTA, Hiroshi; (JP).
NOMURA, Masako; (JP).
OBAYASHI, Yuko; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-326217 22.12.2008 JP
2008-332748 26.12.2008 JP
Titre (EN) CLEANSER COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING SAME, AMPHIPHILIC COMPOUND, AND COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE NETTOYANT, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, COMPOSÉ AMPHIPHILE ET COMPOSITION
(JA) 洗浄剤組成物及びその製造方法、並びに、両親媒性化合物、及び組成物
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a cleanser composition which has reduced protein denaturation properties and reduced irritation to the skin and is therefore more highly mild.  Also disclosed is a process for producing the cleanser composition.  The cleanser composition is characterized by containing a compound represented by structural formula (1).       C10-CH(SO3A)-CONR’R’’         Structural formula (1) [In structural formula (1), C10 represents an linear or branched alkyl chain; R’ represents an hydrogen atom or a C1-3 alkyl group which may have a hydroxy group; R’’ represents a C2-6 alkyl group which has one hydroxy group; and A represents any one selected from an alkali metal, an alkali earth metal and a protonated amine having 6 or less carbon atoms which may have a hydroxy group.]
(FR)L'invention porte sur une composition de nettoyant qui a des propriétés de dénaturation de protéines réduites et une irritation réduite vis-à-vis de la peau et qui est par conséquent plus extrêmement douce. L'invention porte également sur un procédé pour la fabrication de la composition de nettoyant. La composition de nettoyant est caractérisée par le fait qu'elle contient un composé représenté par la formule de structure (1). C10-CH(SO3A)-CONR'R'' formule de structure (1) [Dans la formule de structure (1), C10 représente une chaîne alkylique linéaire ou ramifiée ; R' représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1-3 qui peut avoir un groupe hydroxy ; R'' représente un groupe alkyle en C2-6 qui a un groupe hydroxy ; et A représente un élément quelconque choisi parmi un métal alcalin, un métal alcalinoterreux et une amine protonée ayant 6 ou moins de 6 atomes de carbone et qui peut avoir un groupe hydroxy.]
(JA) 蛋白変性や皮膚刺激性を低減して、よりマイルド性の高い洗浄剤組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。即ち、本発明の洗浄剤組成物は、下記構造式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする。 C10-CH(SOA)-CONR’R’’構造式(1)(ただし、前記構造式(1)において、C10は、直鎖又は分岐鎖のアルキル鎖を示し、R'は、水素又は炭素数1~3の水酸基を有していてもよいアルキル基を示し、R''は、炭素数2~6の水酸基を1個有するアルキル基を示し、Aは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及び炭素数6以下の水酸基を有していてもよいプロトン化されたアミンのいずれかを示す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)