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1. (WO2010073578) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/073578    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/007046
Date de publication : 01.07.2010 Date de dépôt international : 21.12.2009
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Kasama 2-chome,Sakae-Ku,Yokohama-shi, Kanagawa 2478610 (JP) (Tous Sauf US).
HOSONO, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MINATO, Takefumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASE, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HOSONO, Takashi; (JP).
MINATO, Takefumi; (JP).
KASE, Yoshihisa; (JP)
Mandataire : KIUCHI, Mitsuharu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-328582 24.12.2008 JP
Titre (EN) PLASMA GENERATING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ発生装置及びプラズマ処理装置
Abrégé : front page image
(EN)A highly reliable plasma generating apparatus and a highly reliable plasma processing apparatus, by which generation of abnormal electric discharge can be suppressed using an extremely simple configuration without making the processing time long and configuration complicated, and by which plasma can be securely generated in an appropriate space.  A microwave blocking plate (14) is arranged below a wafer (6).  The microwave blocking plate (14) is composed of an upper plate (14a) and a side plate (14b) attached perpendicular to the upper plate (14a).  On the upper plate (14a) of the microwave blocking plate (14), a plurality of hole sections (15) having a diameter smaller than 1/4 of the wavelength of microwaves are formed on the entire circumference.
(FR)L'invention porte sur un appareil de génération de plasma très fiable et sur un appareil de traitement par plasma très fiable, par lesquels une génération de décharge électrique anormale peut être supprimée en utilisant une configuration extrêmement simple sans rendre le temps de traitement long et la configuration compliquée, et par lesquels un plasma peut être généré de façon sûre dans un espace approprié. Une plaque de blocage d'hyperfréquence (14) est agencée au-dessous d'une tranche (6). La plaque de blocage d'hyperfréquence (14) est composée d'une plaque supérieure (14a) et d'une plaque latérale (14b) attachée perpendiculairement à la plaque supérieure (14a). Sur la plaque supérieure (14a) de la plaque de blocage d'hyperfréquence (14), une pluralité de sections de trou (15) ayant un diamètre inférieur à 1/4 de la longueur d'onde des hyperfréquences est formée sur la périphérie entière.
(JA) 処理時間の長期化や構成の複雑化を回避しつつ、極めて簡単な構成によって異常放電の発生を抑えることができ、適切な空間にプラズマを確実に発生させることが可能な、信頼性に優れたプラズマ発生装置及びプラズマ処理装置を提供する。ウェーハ6よりも下方にマイクロ波遮断板14が配置されている。マイクロ波遮断板14は、上面板14aと、該上面板14aに対し垂直に取り付けられた側面板14bとから構成されている。マイクロ波遮断板14の上面板14aにはマイクロ波波長の1/4よりも小径の穴部15が、全周にわたって複数形成されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)