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1. (WO2010022134) GRAVURE AU LASER DE POLYCHLORURE DE VINYLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/022134    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/054283
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 19.08.2009
CIB :
C08K 3/00 (2006.01), C08K 3/26 (2006.01), C08J 5/00 (2006.01)
Déposants : ECHELON LASER SYSTEMS, LP [--/US]; 1955 Powis Road West Chicago, Illinois 60185 (US) (Tous Sauf US).
DEL MUNDO, Bonifacio [US/US]; (US) (US Seulement).
PFAU, James [US/US]; (US) (US Seulement).
COGHLAN, Henry [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DEL MUNDO, Bonifacio; (US).
PFAU, James; (US).
COGHLAN, Henry; (US)
Mandataire : BERENATO, III, Joseph W.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/090,798 21.08.2008 US
Titre (EN) LASER ETCHING OF POLYVINYLCHLORIDE
(FR) GRAVURE AU LASER DE POLYCHLORURE DE VINYLE
Abrégé : front page image
(EN)A laser-markable polyvinylchloride composition is provided which is adapted to undergo reduced or no color change in response to irradiation with a laser beam. The composition contains polyvinylchloride and a discoloration control additive present in an effective amount to reduce or eliminate discoloration caused by laser marking of the polyvinylchloride composition.
(FR)La présente invention concerne une composition de polychlorure de vinyle pouvant être marquée au laser qui est conçue pour subir un faible changement de couleur ou aucun changement de couleur en réponse à l’irradiation par un faisceau laser. La composition contient du polychlorure de vinyle et un additif limitant la décoloration présent en une quantité efficace pour réduire ou éliminer la décoloration entraînée par le marquage au laser de la composition de polychlorure de vinyle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)